Описание
Отличительные особенности установки:
- Криогенная высоковакуумная откачка, предельный вакуум 10-7 торр, температура первой ступени не выше 65-70 К (для конденсации водяных паров и «тяжелых» газов), температура второй ступени не выше 12 К (для конденсации азота, кислорода и аргона), удержание гелия, водорода и неона за счет криоадсорбции на активированном угле;
- Визуальный контроль начала и конца процесса испарения исходных материалов (фиксирование начала и конца испарения);
- Контроль температуры источника и подложки;
- Регулировка тока испарителей автоматически по временной диаграмме;
- Измерение плотности потока испаряемого вещества ионизационными датчиками;
- Измерение толщины покрытий, с контролем ресурса датчика толщины покрытий;
- Четыре термических испарителя (поочередное напыление 4-х материалов за один технологический цикл);
- Установка до 6-и подложек диаметром 100 мм на съемный подложкодержатель, вращаемый шаговым двигателем;
- Регистрация положения подложкодержателя по оптическим датчикам с точностью позиционирования до 1 мм;
- Очистка подложки ионным источником в мягком режиме, без повреждения структуры на подложке с возможностью ионного ассистирования.
При изготовлении установок мы используем комплектующие от ведущих мировых производителей вакуумного оборудования.
Технические характеристики
Количество термических испарителей, шт. | 4 |
Толщина покрытий, мкм | от 10-2 до 10 |
Однородность покрытий, % | 3—5 |
Температура нагрева подложек, °С | до 200 |
Расстояние от испарителя до подложки, мм | 200—600 |
Потребляемая мощность, кВт | 6 |
Масса, кг | 1300 |
Габаритные размеры без стойки управления (Д×Ш×В), мм | 1000×1500×2000 |
Габаритные размеры стойки управления (Д×Ш×В), мм | 600×600×1000 |
Система управления технологическим процессом | в ручном и полуавтоматическом режимах |