clock
Заказать звонок Мы вам перезвоним

Ионно-лучевой источник с анодным слоем - EPOS-IS-AL

Назначение

 

          Ионно-лучевое устройство (ИЛУ, ионный источник, ионная пушка) с анодным слоем применяется для очистки подложек и ассистирования в процессе напыления тонких пленок. Применение ионного источника позволяет производить качественную очистку поверхности подложек и ионное ассистирование при вакуумном напылении. Ионный источник является внутрикамерным устройством и может быть смонтирован на фланце или внутри камеры с применением кронштейна, позволяющего изменять угол наклона источника.

Подробное описание оборудования

Скачать полное описание Скачать полное описание

Описание

 

          Источники ионных пучков типа анодного слоя являются очень надежными устройствами, которые могут работать с широким спектром газов и смесей. Они не нуждаются в дополнительном нейтрализаторе для компенсации заряда и поэтому могут непрерывно работать на химически активных газах (кислород, воздух, галогены и т. д.). Конструкция ионного источника обеспечивает его легкую и быструю разборку, что удобно при обслуживании.

 

          По запросу ионный источник может быть смонтирован на фланце и укомплектован необходимыми вакуумными вводами.

 

работа Ионно-лучевого устройства

 

Технические характеристики

 

Габаритные размеры источника, мм

115×115×115

Ток разряда, А

0—3

Напряжение разряда, В

70—400

Средняя энергия пучка ионов, % от напряжения разряда

70—95

Угол раскрытия пучка, град

80

Полный ионный ток, % от тока разряда

до 40

Охлаждение

жидкостное

Газовое кольцо

есть

 

Скачать полное описание