Ионно-лучевое устройство (ИЛУ, ионный источник, ионная пушка) с анодным слоем применяется для очистки подложек и ассистирования в процессе напыления тонких пленок. Применение ионного источника позволяет производить качественную очистку поверхности подложек и ионное ассистирование при вакуумном напылении. Ионный источник является внутрикамерным устройством и может быть смонтирован на фланце или внутри камеры с применением кронштейна, позволяющего изменять угол наклона источника.
Скачать полное описание
Источники ионных пучков типа анодного слоя являются очень надежными устройствами, которые могут работать с широким спектром газов и смесей. Они не нуждаются в дополнительном нейтрализаторе для компенсации заряда и поэтому могут непрерывно работать на химически активных газах (кислород, воздух, галогены и т. д.). Конструкция ионного источника обеспечивает его легкую и быструю разборку, что удобно при обслуживании.
По запросу ионный источник может быть смонтирован на фланце и укомплектован необходимыми вакуумными вводами.
Технические характеристики
Габаритные размеры источника, мм | 115×115×115 |
Ток разряда, А | 0—3 |
Напряжение разряда, В | 70—400 |
Средняя энергия пучка ионов, % от напряжения разряда | 70—95 |
Угол раскрытия пучка, град | 80 |
Полный ионный ток, % от тока разряда | до 40 |
Охлаждение | жидкостное |
Газовое кольцо | есть |
