Для отработки технологии магнетронного напыления металлических и диэлектрических покрытий на твердые и дисперсные образцы предлагаем Вам настольную вакуумную установку EPOS-PVD-DESK.
Установка предназначена для:
- Отработки технологий нанесения покрытий;
- Проведения научных исследований в областях материаловедения, приборостроения, электроники, нанесения оптических покрытий, микромеханических устройств и др.
- Оптимальна для целей и задач учебного процесса ВУЗов.
Простота использования настольной установки сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и процесса напыления. Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов и диэлектриков как на твёрдые, так и на дисперсные образцы. Толщина покрытий от десятков нанометров до нескольких микрон.
Для оптимизации процесса напыления в малом объёме разработана специальная конструкция вакуумной камеры, выполненной из нержавеющей стали и обеспечивающей распыление сверху вниз. Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий, а съемный верхний фланец предусматривает возможность установки дополнительного магнетрона и ионного источника на месте двух портов. Имеется специальный фланец для установки датчика толщины покрытий.
Магнетрон с заслонкой выполнен на фланце в стандарте ISO100 с возможностью регулировки высоты расположения мишени относительно фланца. Мощность разряда до 1,5 кВт, однородность наносимых покрытий ±10%.
Важные преимущества установки:
Система управления установкой – полуавтоматическая. Реализована на программируемом контроллере с управлением откачкой, потоками газов, электромагнитными клапанами, шаговым двигателем, технологическими источниками питания. Наличие системы блокировок по потоку воды и по допустимому вакууму. Имеется цветной сенсорный экран.
Технические характеристики
Габаритный размер (Д×Ш×В), мм |
1050×700×670 |
Предельный вакуум, мбар |
10-6 |
Однородность наносимых покрытий, % |
±5 |
Количество магнетронов |
1 DC, 2 DC (опционально), 1 DC + 1 RF (опционально) |
Ионный источник |
1 (опционально) |
Источник питания магнетронов |
согласно типу магнетронов |
Количество одновременно загружаемых образцов |
4 образца ⌀ 90 мм или 6 образцов ⌀ 70 мм |
Тип распыляемого материала |
металлы или диэлектрики (опционально) |
Возможность ионного ассистирования |
да (опционально) |
Точность позиционирования подложки, мм |
не хуже 0,5 |
Охлаждение |
воздушное+водяное |
Максимальная рабочая температура внешней поверхности вакуумной камеры, °С |
не выше +40 |
Параметры электропитания |
380 В, 50 Гц |
Установленная мощность, кВт |
не более 2 |
Масса установки, кг |
87 |