Универсальная вакуумная установка напыления тонких пленок - EPOS-PVD-E-MAG

Назначение

Установка EPOS‐PVD‐E-Mag – это универсальная вакуумная установка напыления тонких пленок, предназначенная для воспроизводимого получения качественных нанометровых и микронных твердых пленок из металлов, оксидов и диэлектриков.

Подробное описание оборудования

ОписаниеОсобенности установкиТехнические характеристики

Скачать полное описание

Описание:

Универсальность установки в полной комплектации определяется разнообразием способов напыления: термического, электронно-лучевого и магнетронного. Благодаря этому установка популярна в научно-исследовательской деятельности в сферах материаловедения, приборостроения, оптики, нанотехнологий и многих других.

Универсальность установки EPOS‐PVD‐E-Mag подразумевает широкий выбор элементов и систем непосредственно для Ваших нужд и задел для модернизации установки, что позволит Вам дополнять и расширять Ваши производственные возможности в будущем.

На каждом из этапов, высококвалифицированные специалисты «ЭПОС-Инжиниринг» помогут Вам:

Подберут наилучшую комплектацию для получения пленок из интересующих Вас материалов и требуемых параметров;
Разработают устройство позиционирования подложек с необходимой точностью;
Разработают оснастку для загрузки необходимого количества Ваших подложек;
Обеспечат вращение и обогрев/охлаждение подложкодержателя;
Оснастят необходимыми измерительными приборами;
Снабдят подходящими откачными системами;
Автоматизируют рабочий процесс для удобства работы с установкой;
Обеспечат доставку и обучение (онлайн/оффлайн).

Более 5 установок EPOS‐PVD‐E-Mag было продано с 2018 года на территории СНГ. Например, установка работает на нескольких факультетах ФГБОУ ВО «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники», в НИУ «Московский энергетический институт» и др.

Особенности установки:

Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах;
Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов;
Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя;
Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С;
Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С.

Универсальная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой.

универсальная вакуумная установка напыления тонких пленок

Технические характериктики:

Характеристики базовой комплектации EPOS‐PVD‐E-Mag с опциями
Входное напряжение, ф/В/Гц	3/380/50
Максимальная потребляемая мощность, кВт	9 (с электронно-лучевым испарителем и нагревом подложек).
Источник питания магнетронов	2-канальный DC источник питания 1500 Вт – 1 шт. Опционально: 3х-канальный. Опционально: 3000 Вт. Опционально питание ВЧ 13,56 МГц с автоматическим согласующим устройством.
Магнетроны	Магнетрон DC-RF с мишенью 3” (75 мм) – 1 шт.: охлаждение: водяное – от 2 л/мин; ручная заслонка; регулируемая высота до 120 мм. Опционально может быть снабжен газовым кольцом для подачи газа непосредственно в область разряда Опционально: до 2-х Магнетронов DC-RF + 1 ионный источник
ОПЦИЯ: Электронно-лучевой испаритель (ЭЛИ) с источником питания	Катодный узел легкосъемный с поворотом луча на 270^°. Корпус водоохлаждаемый, материал медь. Наличие настраиваемой фокусировки луча. Гибкие высоковольтные вакуумные вводы для накала. Опционально: система электромагнитного отклонения луча.
ОПЦИЯ: Система термического напыления	Тугоплавкая лодочка на охлаждаемых электрических вводах. Программируемая стабилизация тока в лодочке.
Вакуумная камера	Материал: нержавеющая сталь. Форма камеры: D-образная. Размеры: длина – 400 мм; ширина – 400 мм; высота – 450 мм. Прозрачное смотровое окно диаметром 100 мм с защитным стеклом. Большая дверца с регулировкой прижатия. Подставка для камеры со съемными защитно-декоративными панелями. Наличие 3х фланцев ISO 100, фланцы «болт», KF40 и др. Возможность установки 2х магнетронов и ЭЛИ, либо 3х магнетронов и системы термического напыления. Опционально: автоматическая заслонка источников. Опционально: дополнительные фланцы – по согласованию.
Подложкодержатель	Диаметр 370 мм. Область поддерживаемой однородности – 70 мм. Подъем столика до 60 мм. Регулировка скорости вращения в диапазоне от 1 до 20 об/мин. Позиционирование подложек шаговым двигателем. Четыре позиции контролируются по оптическим датчикам с точностью 1 мм. Нагрев 0 ÷ 350 °С. Контролируется ПИД-регулятором с обратной связью по термопаре Согласованный термопарный ввод К типа. Опционально: Нагрев до 650 °С.
Регулятор расхода газа и газовая магистраль	3 канала подачи чистых газов (аргон, кислород, азот, …) содержат электронные регуляторы расхода газа и отсечные клапаны;
Вакуумная система	Максимальный уровень вакуума: 10^-4 Па. Высокоэффективный безмасляный турбомолекулярный насос; спиральный или пластинчато-роторный насос; высоковакуумные клапаны обеспечивают байпасную откачку и отсечение турбомолекулярного насоса; широкодиапазонный вакуумметр.
ОПЦИЯ: Водяное охлаждение	Промышленная установка охлаждения жидкости (чиллер) CSW производства ATS S.r.l.
ОПЦИЯ: Контроль толщины покрытий	Один прецизионный датчик толщины покрытий с точностью 0,1 Å Интегрирован в систему управления установкой 3. Связь с компьютером по RS485, USB 4. База с напыляемыми материалами 5. Отображение толщины покрытия на кристалле и скорости напыления 6. 10 запасных кристаллов 7. Водяное охлаждение Опционально: заслонка датчика