Настольная вакуумная установка магнетронного напыления

Для отработки технологии магнетронного напыления металлических и диэлектрических покрытий на твердые и дисперсные образцы предлагаем Вам настольную вакуумную установку VSE-PVD-DESK-PRO

Отличительные особенности установки:

  • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий;
  • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий;
  • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован;
  • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий;
  • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами.

Установка предназначена для:

  • Отработки технологий нанесения покрытий;
  • Проведения научных исследований в областях материаловедения, приборостроения, электроники, нанесения оптических покрытий, микромеханических устройств и др.
  • Оптимальна для целей и задач учебного процесса ВУЗов
Настольная вакуумная установка магнетронного напыления
настольная вакуумная установка магнетронного напыления
настольная вакуумная установка магнетронного напыления
Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации  управления вакуумной системой и процесса напыления. Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. Установка предусматривает возможность нанесения  различных типов металлов и диэлектриков как на твёрдые, так и на дисперсные образцы. Толщина покрытий от десятков нанометров до нескольких микрон. Специально разработанная конструкция вакуумной камеры для оптимизации процесса в малом объёме. Выполнена из нержавеющей стали, обеспечивает распыление сверху вниз. Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий Съемный верхний фланец предусматривает возможность установки дополнительного магнетрона и ионного источника на месте двух  портов. Специальный фланец для установки датчика толщины покрытий. Минимизация диаметра нераспыляемой центральной части магнетрона. Магнетрон с заслонкой выполнен на фланце в стандарте ISO100 с возможностью регулировки высоты расположения мишени относительно фланца. Мощность разряда, до 1,5 кВт Однородность наносимых покрытий: ±10%
  • диапазон плавного регулирования выходной средней мощности: от 0,1 до 3 кВт
  • подложкодержатель с шаговым двигателем и оптическими датчиками обеспечивает точность положения до 0,5 мм. Количество подложек диаметром 90 мм – 4 шт.

Ввод вращения в вакуум с дифференциальной откачкой.

  • подача газа осуществляется непосредственно через магнетрон (опция)
  • предусмотрена возможность измерения толщины покрытия (опция)
  • устройство нагрева подложкодержателя (опция)
  • передача данных и управление через ПК (опция)
  • комплектующие от ведущих мировых производителей

Система управления – полуавтоматическая. Реализована на программируемом контроллере с  управлением откачкой, потоками газов, электромагнитными клапанами, шаговым двигателем, технологическими источниками питания. Наличие системы блокировок по потоку воды и по допустимому вакууму. Наличие цветного сенсорного экрана.

Технические характеристики

Габаритный размер Д*Ш*В 1050*700*670 мм
Предельный вакуум 10-6  мбар
Однородность наносимых покрытий ±5%
Количество магнетронов 1 DC, 2 DC (опционально),

1 DC + 1 RF (опционально)
Ионный источник 1 (опционально)
Источник питания магнетронов Согласно типу магнетронов
Количество одновременно загружаемых образцов 4 образца d=90 мм или 6 образцов d=70 мм
Тип распыляемого материала Металлы или диэлектрики (опционально)
Возможность ионного ассистирования Да (опционально)
Точность позиционирования подложки не хуже 0,5 мм
Охлаждения воздушное+водяное
Максимальная рабочая температура внещней поверхности вакуумной камеры не выше +40°С
Напряжение питания 380 В, 50 Гц
Установленная мощность Не более 2 кВт
Масса установки 87 кг