Настольная вакуумная установка магнетронного напыления
Для отработки технологии магнетронного напыления металлических и диэлектрических покрытий на твердые и дисперсные образцы предлагаем Вам настольную вакуумную установку VSE-PVD-DESK-PRO
Отличительные особенности установки:
Установка предназначена для:



Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и процесса напыления. Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами.
Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов и диэлектриков как на твёрдые, так и на дисперсные образцы. Толщина покрытий от десятков нанометров до нескольких микрон.
Специально разработанная конструкция вакуумной камеры для оптимизации процесса в малом объёме. Выполнена из нержавеющей стали, обеспечивает распыление сверху вниз. Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий
Съемный верхний фланец предусматривает возможность установки дополнительного магнетрона и ионного источника на месте двух портов. Специальный фланец для установки датчика толщины покрытий.
Минимизация диаметра нераспыляемой центральной части магнетрона. Магнетрон с заслонкой выполнен на фланце в стандарте ISO100 с возможностью регулировки высоты расположения мишени относительно фланца.
Мощность разряда, до 1,5 кВт
Однородность наносимых покрытий: ±10%
Ввод вращения в вакуум с дифференциальной откачкой.
Система управления – полуавтоматическая. Реализована на программируемом контроллере с управлением откачкой, потоками газов, электромагнитными клапанами, шаговым двигателем, технологическими источниками питания. Наличие системы блокировок по потоку воды и по допустимому вакууму. Наличие цветного сенсорного экрана.
Технические характеристики
Габаритный размер Д*Ш*В | 1050*700*670 мм |
Предельный вакуум | 10-6 мбар |
Однородность наносимых покрытий | ±5% |
Количество магнетронов | 1 DC, 2 DC (опционально),
1 DC + 1 RF (опционально) |
Ионный источник | 1 (опционально) |
Источник питания магнетронов | Согласно типу магнетронов |
Количество одновременно загружаемых образцов | 4 образца d=90 мм или 6 образцов d=70 мм |
Тип распыляемого материала | Металлы или диэлектрики (опционально) |
Возможность ионного ассистирования | Да (опционально) |
Точность позиционирования подложки | не хуже 0,5 мм |
Охлаждения | воздушное+водяное |
Максимальная рабочая температура внещней поверхности вакуумной камеры | не выше +40°С |
Напряжение питания | 380 В, 50 Гц |
Установленная мощность | Не более 2 кВт |
Масса установки | 87 кг |