clock
Заказать звонок Мы вам перезвоним

Плазмотроны для нагрева газов

Подробное описание оборудования

Скачать полное описаниеСкачать полное описание

Описание

 

МЫ СОЗДАЕМ:

 

          Плазменные системы нагрева с расходом газа от граммов в секунду до нескольких КИЛОГРАММОВ ГАЗА в секунду, с нагревом до 7000-8000;градусов, при этом газ не должен быть загрязнен материалом электродов плазматрона, например, для продувки космических аппаратов, боеголовок, гиперзвуковых аппаратов, керамических теповыделяющих элементов, для плазмохимии-синтез, переработка опасных химических и биологических отходов - эту задачу качественно решим только МЫ.

 

МЫ ПОДБЕРЕМ ДЛЯ ВАС ЛУЧШЕЕ РЕШЕНИЕ в классификации линейных плазмотронов мы, из десятков имеющихся у нас вариантов конструкций:

  • Плазмотроны линейной схемы;
  • C межэлектродными вставками;
  • C самоустанавливающейся длиной дуги;
  • C уступом;
  • C вынесенной дугой и т. д.

Рис. 1. Опытный плазменный стенд

 

          Опытный плазменный стенд (Рис. 1) предназначен для масштабного моделирования дополнительного подогрева дутья (например, доменного) и проверки и обоснования технических и схемных решений.

 

          Работа на опытном плазменном стенде проводилась для получения расходных, технологических и конструктивных данных для разработки ТЭО на промышленную плазменную установку мощностью до 10 МВТ.

 

          Работа стенда отличается малой инерционностью: выход на режим осуществляется в течение 1-5 минут.

 

          Конструкция стенда компонуется по аксиальной схеме, по блочному принципу, и включает в себя следующие основные блоки: футерованный блок; плазменный блок; блок ввода газа; блок отвода газа; несущие конструктивные элементы. Эти блоки могут иметь различные взаимозаменяемые конфигурации, совместимые с соседними блоками. Такая компоновка стенда позволила испытать различные конструктивные решения и технологические приемы.

Плазменный стенд электродугового линейного плазмотрона мощностью 20 МВт для нагрева газа.

 

Линейный плазмотрон 20 МВт для испытания экспериментальных блоков путем обдува высокотемпературным газовым, плазменным потоком.пультовая линейного плазмотрона

Рис 1, 2. Линейный плазмотрон 20 МВт для испытания экспериментальных блоков путем обдува высокотемпературным газовым, плазменным потоком.

 

НАМИ РАЗРАБОТАНЫ И ЗАПУЩЕНЫ:

          Плазмотроны мощностью от 1,5 МВт до 20,0 МВт в составе плазменного комплекса мощностью 40,0 МВА для Ядерного Центра Республики Казахстан (до 1990 г. - Семипалатинский ядерный полигон СССР)

 

ПРОВЕДЕНЫ РАБОТЫ:

          На стенде с применением плазмотрона с проницаемыми межэлектродными вставками в течение нескольких лет были проведены испытания тепловыделяющих сборок ядерных ракетных двигателей (ЯРД), проведены:

 

- испытания специзделий на мощностные параметры;

- газодинамические продувки;

- отработаны технологии газификации углей с производством синтез-газа;

- ряд других работ.

 

          В зависимости от требуемой мощности плазмотрона, в диапазоне от 3 до 20 МВт, для защиты канала плазмотрона и увеличения КПД (исключение потерь на участке проницаемых вставок) работы производились с пенокордиеритвыми (алюмосиликат магния и железа), либо с жаропрочными металлическими пористыми втулками (ноу-хау для обеспечения высокого срока службы и мощности плазматронов), втулками из молибдена и других материалов.

 

Возможности стенда:

Подстанция, энергетика

40 МВА

Газификаторы с системой хранения и выдачи газов

до 20 кг/сек

Система оборотного водоохлаждения

800,0 кВт

Вакуумная система, объем:

1500 м3

Система управления и регистрации

 

Рис 3, 4. Система подачи газов и пультовая.

Электродуговой плазмотрон универсального назначения с проницаемыми МЭВ.

 

Плазмотрон линейной схемы с проницаемыми межэлектродными вставками в сборе. Схема плазмотрона.

Рис 1, 2. Плазмотрон линейной схемы с проницаемыми межэлектродными вставками в сборе. Схема плазмотрона.

 

ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ:

Плазмотрон может быть использован для:

  • Для получения синтез-газа;
  • Проведения восстановительных металлургических процессов;
  • Увеличения температуры доменного дутья;
  • Высокотемпературной обработки материалов;
  • Сложных процессов (в частности, плазмохимии, синтеза), протекающих под значительным избыточным и атмосферным давлением;
  • Порошковой металлургии и т. д;

          Использование плазмотрона в металлургических и плазмохимических агрегатах позволяет резко, в ряде случаев в тысячи раз, ускорять химические реакции и минимизировать размеры аппаратов.

 

Плазменные технологии целесообразно соединять с принципиально новыми высокотемпературными технологиями получения металлов и неметаллических материалов.

 

Характеристики:

Мощность

-до 20 мВт.

КПД

98 %

Давление в камере

50 атм.

Рабочие тела:

азот
аргон
гелий
водород
СО2
воздух
синтез-газ
природный газ
вода

Расход нагретого газа

5кг/сек.

при Tемп. до 6000 К

Ресурс работы

> 1000часов

Габариты:

 

длина

-от 400 мм

диаметр

250 мм

масса

-35 кг.

 

Скачать полное описание