Установка конфокального магнетронного напыления – VSE-PVD-75-B
Назначение
Для реализации технологии нанесения металлических и диэлектрических покрытий на образцы методом магнетронного распыления в вакууме предлагаем Вам установку VSE-PVD-75-B.
Установка предназначена для мелкосерийного производства, а также для R&D.
Отличительные возможности установки:
- Верхняя секция вакуумной камеры выполнена в виде подъемного цилиндра на электромеханическом подъемнике, что обеспечивает всесторонний, удобный доступ к образцам и технологическому оборудованию;
- Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий;
- Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован;
- Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий;
- Высокая адгезия покрытия к подложке за счет нагрева подложек и ионной очистки;
- Магнетрон постоянного тока для осаждения металлов (с возможностью работы в импульсном режиме), один ВЧ магнетрон – для диэлектриков, ионный источник;
- Подача газа осуществляется при помощи прецизионных регуляторов расхода газа (РРГ) в ионный источник и каждый магнетрон через газовое кольцо, что позволяет получать серии образцов с заданными свойствами и высокой повторяемостью характеристик;
- Возможность наносить покрытия на объемные образцы (опционально).
Основные характеристики:
Размер подложки | до 75 мм; |
Нагрев подложки и точность поддержания температуры | до 350±10С; |
Расстояние от источников до подложки | от 50 до 300 мм; |
Предельный вакуум | 10-7 мбар; |
Установленная мощность | не более 9 кВт; |
Масса установки | не более 400 кг; |
Габаритный размер ДхШхВ | 800х1500х1850 мм. |
Опции:
При изготовлении установок мы используем комплектующие от ведущих мировых производителей вакуумного оборудования.