Плазмотроны для нагрева газов

МЫ СОЗДАЕМ:

Плазменные системы нагрева с расходом газа от граммов в секунду — до нескольких КИЛОГРАММОВ ГАЗА в секунду, с нагревом до 7000 — 8000 градусов, при этом газ не должен быть загрязнен материалом электродов плазматрона, например, для продувки космических аппаратов, боеголовок, гиперзвуковых аппаратов, керамических теповыделяющих элементов, для плазмохимии – синтез, переработка опасных химических и биологических отходов — эту задачу качественно решим только МЫ.

МЫ ПОДБЕРЕМ ДЛЯ ВАС ЛУЧШЕЕ РЕШЕНИЕ в классификации линейных плазмотронов мы, из десятков имеющихся у нас вариантов конструкций: 
  • Плазмотроны линейной схемы;
  • C межэлектродными вставками;
  • C самоустанавливающейся длиной дуги;
  • C уступом;
  • C вынесенной дугой и т. д.
плазменный стенд

Ниже приведем НАШИ ПРИМЕРЫ применения плазмотронов линейной схемы с проницаемыми МЭВ (межэлектродными вставками) для нагрева газов.

Рис 1, 2 Линейный плазмотрон 20 МВт для испытания экспериментальных блоков путем обдува высокотемпературным газовым, плазменным потоком.

НАМИ РАЗРАБОТАНЫ И ЗАПУЩЕНЫ:

Плазмотроны мощностью от 1,5 МВт до 20,0 МВт в составе плазменного комплекса мощностью 40,0 МВА для Ядерного Центра Республики Казахстан (до 1990 г. – Семипалатинский ядерный полигон СССР)

ПРОВЕДЕНЫ РАБОТЫ:

На стенде с применением плазмотрона с проницаемыми межэлектродными вставками в течение нескольких лет были проведены испытания тепловыделяющих сборок ядерных ракетных двигателей (ЯРД), проведены:

    • испытания специзделий на мощностные параметры;
    • газодинамические продувки;
    • отработаны технологии газификации углей с производством синтез-газа;
    • ряд других работ.

В зависимости от требуемой мощности плазмотрона, в диапазоне от 3 до 20 МВт,  для защиты канала плазмотрона и увеличения КПД (исключение потерь на участке проницаемых вставок) работы производились с пенокордиеритвыми (алюмосиликат магния и железа), либо с жаропрочными металлическими пористыми втулками (ноу-хау для обеспечения высокого срока службы и мощности плазматронов), втулками  из молибдена и других материалов.

Возможности стенда:

Подстанция, энергетика 40 МВА
Газификаторы с системой хранения и выдачи газов до 20 кг/сек
Система оборотного водоохлаждения 800,0 кВт
Вакуумная система, объем: 1500 м3
Система управления и регистрации  
5
плазменный комплекс

Рис 3, 4. Система подачи газов и пультовая.

Схема плазмотрона

Рис 1, 2. Плазмотрон линейной схемы с проницаемыми межэлектродными вставками в сборе. Схема плазмотрона.

ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ:

Плазмотрон может быть использован для:

    • Для получения синтез-газа;
    • Проведения восстановительных металлургических процессов;
    • Увеличения температуры доменного дутья;
    • Высокотемпературной обработки материалов;
    • Сложных процессов (в частности, плазмохимии, синтеза), протекающих под значительным избыточным и атмосферным давлением;
    • Порошковой металлургии и т. д;

Использование плазмотрона в металлургических и плазмохимических агрегатах позволяет резко, в ряде случаев  — в тысячи раз, ускорять химические реакции и минимизировать размеры аппаратов.

Плазменные технологии целесообразно соединять с принципиально новыми высокотемпературными технологиями получения металлов и неметаллических материалов.

Характеристики:

Мощность -до 20  мВт.
КПД 98 %
Давление в камере 50 атм.
Рабочие тела:

 

азот
аргон
гелий
водород
СО2
воздух
синтез-газ
природный газ
вода
Расход нагретого газа 5кг/сек.

при Tемп. до 6000 К

Ресурс работы > 1000часов
Габариты:
—                     длина -от 400 мм
—                     диаметр 250 мм
—                     масса -35 кг.

Обращайтесь с запросами, и Вы получите качественное решение вашей задачи.