Установки напыления тонких пленок
Вакуумными способами создаются тонкие, но очень качественные покрытия на самых разнообразных подложках. Напыляются на атомарном уровне металлы, керамика, фториды, полупроводники и др. Современные решения обеспечивают высокую стабильность свойств покрытий для широкого ряда материалов. Задаются толщины от долей нанометра до десятков микрон.
В представленном каталоге Вы можете подобрать установки производства фирмы «ЭПОС-Инжиниринг» для нанесения тонких пленок самыми различными способами – как методами физического осаждения паров (PVD): магнетронным, термическим, дуговым, электронно-лучевым испарением, так и методами химического осаждения из газовой фазы (CVD).
Установки напыления покрытий (PVD)Установки напыления тонких пленок
Установки нанесения покрытий (CVD)Установки напыления тонких пленок
Установка для непрерывного нанесения покрытий на дисперсные материалы – EPOS-PVD-PowderМагнетронное напыление
Установка для вакуумного напыления металлов на рулонные материалы - EPOS-PVD-RollМагнетронное напыление
Установка конфокального магнетронного напыления – EPOS-PVD-CONF Магнетронное напыление
Установка плазмохимического осаждения слоев из газовой фазы - EPOS-PECVD-100Установки нанесения покрытий (CVD)
Установка осаждения металлорганических соединений из газовой фазы - EPOS-MOCVDУстановки нанесения покрытий (CVD)
