clock
Заказать звонок Мы вам перезвоним

Установки напыления тонких пленок

          Вакуумными способами создаются тонкие, но очень качественные покрытия на самых разнообразных подложках. Напыляются на атомарном уровне металлы, керамика, фториды, полупроводники и др. Современные решения обеспечивают высокую стабильность свойств покрытий для широкого ряда материалов. Задаются толщины от долей нанометра до десятков микрон.

 

          В представленном каталоге Вы можете подобрать установки производства фирмы «ЭПОС-Инжиниринг» для нанесения тонких пленок самыми различными способами – как методами физического осаждения паров (PVD): магнетронным, термическим, дуговым, электронно-лучевым испарением, так и методами химического осаждения из газовой фазы (CVD).


 

Установки напыления покрытий (PVD)
Установки напыления покрытий (PVD)Установки напыления тонких пленок
Установки нанесения покрытий (CVD)
Установки нанесения покрытий (CVD)Установки напыления тонких пленок
object(SimpleXMLExtended)#17 (1) { [0]=> string(40) "tekhnologicheskoe-vakuumnoe-oborudovanie" } array(2) { [0]=> bool(false) [1]=> string(40) "tekhnologicheskoe-vakuumnoe-oborudovanie" } NULL object(SimpleXMLExtended)#17 (1) { [0]=> string(40) "tekhnologicheskoe-vakuumnoe-oborudovanie" }
Обратная связь

Я соглашаюсь на обработку моих персональных данных.