clock
Заказать звонок Мы вам перезвоним

Установки напыления тонких пленок

          Вакуумными способами создаются тонкие, но очень качественные покрытия на самых разнообразных подложках. Напыляются на атомарном уровне металлы, керамика, фториды, полупроводники и др. Современные решения обеспечивают высокую стабильность свойств покрытий для широкого ряда материалов. Задаются толщины от долей нанометра до десятков микрон.

 

          В представленном каталоге Вы можете подобрать установки производства фирмы «ЭПОС-Инжиниринг» для нанесения тонких пленок самыми различными способами – как методами физического осаждения паров (PVD): магнетронным, термическим, дуговым, электронно-лучевым испарением, так и методами химического осаждения из газовой фазы (CVD).


 

Установки напыления покрытий (PVD)
Установки напыления покрытий (PVD)Установки напыления тонких пленок
Установки нанесения покрытий (CVD)
Установки нанесения покрытий (CVD)Установки напыления тонких пленок
Обратная связь

Я соглашаюсь на обработку моих персональных данных.