Вакуумными способами создаются тонкие, но очень качественные покрытия на самых разнообразных подложках. Напыляются на атомарном уровне металлы, керамика, фториды, полупроводники и др. Современные решения обеспечивают высокую стабильность свойств покрытий для широкого ряда материалов. Задаются толщины от долей нанометра до десятков микрон.
В представленном каталоге Вы можете подобрать установки производства фирмы «ЭПОС-Инжиниринг» для нанесения тонких пленок самыми различными способами – как методами физического осаждения паров (PVD): магнетронным, термическим, дуговым, электронно-лучевым испарением, так и методами химического осаждения из газовой фазы (CVD).
