Промышленная установка магнетронного напыления – EPOS-PVD

Промышленная магнетронная установка – EPOS-PVD-440

Описание

          Установка EPOS-PVD-440 с автоматическим управлением предназначена для нанесения металлических и диэлектрических покрытий методом магнетронного распыления с предварительной ионно-лучевой очисткой и возможностью нагрева обрабатываемых подложек до 300°С.

          Напыляемые изделия устанавливается в вакуумную камеру на вращающемся столе, который приводится в движение механизмом вращения. Загрузка изделий в камеру производится через дверцу вручную. Для установки нестандартных напыляемых изделий возможно применение специальной оснастки.

          Установка магнетронного напыления оснащена камерой диаметром 750 мм и высотой 850 мм, имеющей большую дверь, обеспечивающую легкий доступ и удобную замену напыляемых изделий. Камера выполнена в виде колпака, который может подниматься линейным электроприводом для обеспечения обслуживания внутрикамерных устройств или быстрой замены напыляемых изделий.

Комплектация

          Электрическая часть установки обеспечивает электропитание элементов установки, осуществляет контроль параметров и автоматизированное управление работой установки. Состоит из источников питания и системы управления.

          Установка оборудована системой полной автоматизации технологического процесса, включая ряд необходимых блокировок и кросс-бокс с гальваническими развязками.

          Программное обеспечение (ПО) позволяет управлять в автоматическом режиме следующими процессами: вакуумной откачкой, регистрацией давления и температуры, параметрами магнетронного распыления и ионной очистки, вращением подложкодержателя, подачей газа.

           Помимо автоматического управления имеется возможность работы в ручном режиме. ПО имеет алгоритмы анализа и протоколирования аварийных ситуаций, в случае возникновения которых генерирует окно аварийных сообщений, которое содержит информацию о причине аварийной ситуации и времени ее возникновения, а также переводит установку в безопасное состояние.

Технические характеристики

Скачать полное описание

Промышленная установка магнетронного напыления - EPOS-PVD-100

          Установка EPOS-PVD-100 оптимальна для решения исследовательских и производственных задач предназначена для:

• Многослойного напыления металлов и диэлектриков на твёрдые и дисперсные образцы за один цикл;
• Отработки технологий в области материаловедения;
• Серийного выпуска высокотехнологичной продукции.

          Мелкосерийное производство EPOS-PVD-100 – вакуумных установок магнетронного напыления металлических и диэлектрических покрытий на твердые и дисперсные образцы развивается в нашей компании с 2010 г. Установка предназначена для многослойного напыления металлов и диэлектриков на твёрдые образцы.

          EPOS-PVD-100 представляет собой оптимальную конфигурацию вакуумной системы для решения множества исследовательских и производственных задач. Данная установка успешно используется для серийного выпуска высокотехнологичной продукции.

Описание

          D-образная  камера с большой дверью  даёт возможность размещения не менее 10 подложек диаметром 50 мм или 6 подложек диаметром 100 мм. Рабочий цикл при одностороннем напылении составляет 2-3 часа.

          Специально разработанный подложкодержатель легко снимается вручную и может разместиться на столе для удобства загрузки, оснащен шаговым двигателем и возможностью регулировки по высоте. Точность позиционирования (менее 1 мм) обеспечивается оптическими датчиками положения. Предусмотрен встроенный нагрев подложек для очистки поверхности, улучшения адгезии, выдерживания стехиометрии при заданной температуре.

          Конструкция установки предусматривает два магнетрона постоянного тока для металлов (с возможностью работы в импульсном режиме), один ВЧ магнетрон для диэлектрика. Магнетроны располагаются в нижней части вакуумной камеры под подложкодержателем, могут регулироваться по высоте, комплектуются пневматическими заслонками. Подача газа осуществляется отдельно на каждом магнетроне через газовое кольцо. Для защиты от перепыления с соседнего магнетрона предусмотрен съёмный экран.

          Система управления обеспечивает полную автоматизацию с сохранением и воспроизведением последовательности действий технологических процессов.

Отличительные возможности установки:

• Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий;
• Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован;
• Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий;
• Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами;
• Высокая адгезия покрытия к подложке;
• Подложкодержатель легко снимается для удобства загрузки образцов;
• Встроенное устройство нагрева подложек;
• Два магнетрона постоянного тока для осаждения металлов (с возможностью работы в импульсном режиме), один ВЧ магнетрон - для диэлектриков;
• Полная автоматизация технологического процесса;
• Подача газа осуществляется отдельно на каждом магнетроне через газовое кольцо.

Опции:

• Прецизионный цифровой регулятор расхода газа;
• Устройство измерения толщины покрытия;
• Квадрупольный масс-спектрометр;
• Мощный источник бесперебойного питания, позволяющий завершить техпроцесс в случае отключения электропитания.

Технические характеристики

Скачать полное описание