clock
Заказать звонок Мы вам перезвоним

Промышленная установка магнетронного напыления – EPOS-PVD

Назначение

 

          Установки предназначены для многослойного напыления металлов и диэлектриков на твёрдые образцы.

Подробное описание оборудования

Скачать полное описание Скачать полное описание

Промышленная магнетронная установка – EPOS-PVD-440

 

Промышленная магнетронная установка – EPOS-PVD-440Промышленная магнетронная установка – EPOS-PVD-440

Промышленная магнетронная установка – EPOS-PVD-440Промышленная магнетронная установка – EPOS-PVD-440

Промышленная магнетронная установка – EPOS-PVD-440Промышленная магнетронная установка – EPOS-PVD-440

 

Описание

 

          Установка EPOS-PVD-440 с автоматическим управлением предназначена для нанесения металлических и диэлектрических покрытий методом магнетронного распыления с предварительной ионно-лучевой очисткой и возможностью нагрева обрабатываемых подложек до 300°С.

 

          Напыляемые изделия устанавливается в вакуумную камеру на вращающемся столе, который приводится в движение механизмом вращения. Загрузка изделий в камеру производится через дверцу вручную. Для установки нестандартных напыляемых изделий возможно применение специальной оснастки.

 

          Установка магнетронного напыления оснащена камерой диаметром 750 мм и высотой 850 мм, имеющей большую дверь, обеспечивающую легкий доступ и удобную замену напыляемых изделий. Камера выполнена в виде колпака, который может подниматься линейным электроприводом для обеспечения обслуживания внутрикамерных устройств или быстрой замены напыляемых изделий.

 

Комплектация

 

система управления

          Электрическая часть установки обеспечивает электропитание элементов установки, осуществляет контроль параметров и автоматизированное управление работой установки. Состоит из источников питания и системы управления.

 

          Установка оборудована системой полной автоматизации технологического процесса, включая ряд необходимых блокировок и кросс-бокс с гальваническими развязками.

 

          Программное обеспечение (ПО) позволяет управлять в автоматическом режиме следующими процессами: вакуумной откачкой, регистрацией давления и температуры, параметрами магнетронного распыления и ионной очистки, вращением подложкодержателя, подачей газа.

 

           Помимо автоматического управления имеется возможность работы в ручном режиме. ПО имеет алгоритмы анализа и протоколирования аварийных ситуаций, в случае возникновения которых генерирует окно аварийных сообщений, которое содержит информацию о причине аварийной ситуации и времени ее возникновения, а также переводит установку в безопасное состояние.

 

Технические характеристики

 

Размер рабочей камеры (⌀×В), мм

750×850

Остаточное давление в камере, Па

8×10-4

Рабочее давление в камере, Па

5×10-1

Температура нагрева подложек, °С

300

Точность поддержания температуры, %

±5

Равномерность нанесения покрытий, %

±10

Габаритные размеры установки, (Д×Ш×В), мм

1600×1800×2200

Масса установки, кг

2000

 

 

Промышленная магнетронная установка – EPOS-PVD-440Промышленная магнетронная установка – EPOS-PVD-440

Промышленная магнетронная установка – EPOS-PVD-440

Скачать полное описание

Промышленная установка магнетронного напыления - EPOS-PVD-100

Промышленная установка магнетронного напыления - EPOS-PVD-100Промышленная установка магнетронного напыления - EPOS-PVD-100

 

          Установка EPOS-PVD-100 оптимальна для решения исследовательских и производственных задач предназначена для:

  • Многослойного напыления металлов и диэлектриков на твёрдые и дисперсные образцы за один цикл;
  • Отработки технологий в области материаловедения;
  • Серийного выпуска высокотехнологичной продукции.

          Мелкосерийное производство EPOS-PVD-100 – вакуумных установок магнетронного напыления металлических и диэлектрических покрытий на твердые и дисперсные образцы развивается в нашей компании с 2010 г. Установка предназначена для многослойного напыления металлов и диэлектриков на твёрдые образцы.

 

          EPOS-PVD-100 представляет собой оптимальную конфигурацию вакуумной системы для решения множества исследовательских и производственных задач. Данная установка успешно используется для серийного выпуска высокотехнологичной продукции.

 

Описание

 

          D-образная  камера с большой дверью  даёт возможность размещения не менее 10 подложек диаметром 50 мм или 6 подложек диаметром 100 мм. Рабочий цикл при одностороннем напылении составляет 2-3 часа.

 

          Специально разработанный подложкодержатель легко снимается вручную и может разместиться на столе для удобства загрузки, оснащен шаговым двигателем и возможностью регулировки по высоте. Точность позиционирования (менее 1 мм) обеспечивается оптическими датчиками положения. Предусмотрен встроенный нагрев подложек для очистки поверхности, улучшения адгезии, выдерживания стехиометрии при заданной температуре.

 

          Конструкция установки предусматривает два магнетрона постоянного тока для металлов (с возможностью работы в импульсном режиме), один ВЧ магнетрон для диэлектрика. Магнетроны располагаются в нижней части вакуумной камеры под подложкодержателем, могут регулироваться по высоте, комплектуются пневматическими заслонками. Подача газа осуществляется отдельно на каждом магнетроне через газовое кольцо. Для защиты от перепыления с соседнего магнетрона предусмотрен съёмный экран.

 

          Система управления обеспечивает полную автоматизацию с сохранением и воспроизведением последовательности действий технологических процессов.

 

Отличительные возможности установки:

  • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий;
  • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован;
  • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий;
  • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами;
  • Высокая адгезия покрытия к подложке;
  • Подложкодержатель легко снимается для удобства загрузки образцов;
  • Встроенное устройство нагрева подложек;
  • Два магнетрона постоянного тока для осаждения металлов (с возможностью работы в импульсном режиме), один ВЧ магнетрон - для диэлектриков;
  • Полная автоматизация технологического процесса;
  • Подача газа осуществляется отдельно на каждом магнетроне через газовое кольцо.

Опции:

  • Прецизионный цифровой регулятор расхода газа;
  • Устройство измерения толщины покрытия;
  • Квадрупольный масс-спектрометр;
  • Мощный источник бесперебойного питания, позволяющий завершить техпроцесс в случае отключения электропитания.

Технические характеристики

 

Габаритный размер установки (Д×Ш×В) (без стойки управления), мм

1550×1150×1850

Габаритный размер стойки управления (Д×Ш×В), мм

600×600×1800

Предельный вакуум, мбар

10-7

Максимальная рабочая температура внешней поверхности вакуумной камеры, °С    

не выше  40

Охлаждение

воздушное+водяное

Напряжение питания

380 В, 50 Гц

Установленная мощность, кВт

не более 9

Масса установки, кг

не более 400

Количество магнетронов

общее – 3 шт. (2 DC, 1ВЧ);

два могут работать одновременно

Питание магнетронов

DC или ВЧ (13.56 МГц)

Количество одновременно загружаемых образцов, шт.

15

Тип распыляемого материала

металл, диэлектрик

Время автономной работы (опционально)

2 часа

Точность позиционирования подложки, мм

не хуже 1 мм

Скорость осаждения напыляемого материала, Å/сек

7,5

 

Скачать полное описание