Установка конфокального магнетронного напыления – EPOS-PVD-CONF

Описание

Отличительные конструктивные и технологические возможности установки:

• Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий;
• Диаметр нераспыляемой центральной части магнетронов минимизирован;
• Возможность установки до четырех магнетронов или трех магнетронов и одного ионного источника;
• Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий;
• Высокая адгезия покрытия к подложке за счет нагрева подложек и ионной очистки;
• Магнетроны могут быть как постоянного тока (DC) для осаждения металлов (с возможностью работы в импульсном режиме), так и высокочастотными (RF) – для диэлектриков;
• Подача газа осуществляется при помощи прецизионных регуляторов расхода газа (РРГ) в ионный источник и каждый магнетрон через газовое кольцо, что позволяет получать серии образцов с заданными свойствами и высокой повторяемостью характеристик;
• Верхняя часть вакуумной камеры выполнена в виде съемного фланца, что обеспечивает при необходимости удобный доступ к технологическому оборудованию;
• Возможность наносить покрытия на объемные образцы (опционально).

Опции:

• Протяженный магнетрон;
• Прогрев или охлаждение вакуумной камеры;
• Карусельная оснастка / оснастка для крепления объемных образцов;
• Автоматизация технологического процесса «по одной кнопке» с возможностью сохранения технологических карт;
• Криогенный насос на замкнутом цикле.

          При изготовлении установок мы используем комплектующие от ведущих мировых производителей вакуумного оборудования.

Технические характеристики

Скачать полное описание