clock
Заказать звонок Мы вам перезвоним

Установка конфокального магнетронного напыления – EPOS-PVD-CONF

Назначение

 

          Установка EPOS-PVD-CONF создана для реализации технологии нанесения металлических и диэлектрических покрытий на образцы методом магнетронного распыления в вакууме. Конструкция позволяет использовать до четырех источников напыления или очистки.

 

          Установка предназначена для мелкосерийного производства, а также для научно-исследовательской работы или разработки технологий.

Подробное описание оборудования

Скачать полное описание Скачать полное описание

       3д модель установки конфокального магнетронного напыления   Установка конфокального магнетронного напыления

 

Описание

 

Отличительные конструктивные и технологические возможности установки:

  • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий;
  • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетронов минимизирован;
  • Возможность установки до четырех магнетронов или трех магнетронов и одного ионного источника;
  • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий;
  • Высокая адгезия покрытия к подложке за счет нагрева подложек и ионной очистки;
  • Магнетроны могут быть как постоянного тока (DC) для осаждения металлов (с возможностью работы в импульсном режиме), так и высокочастотными (RF) – для диэлектриков;
  • Подача газа осуществляется при помощи прецизионных регуляторов расхода газа (РРГ) в ионный источник и каждый магнетрон через газовое кольцо, что позволяет получать серии образцов с заданными свойствами и высокой повторяемостью характеристик;
  • Верхняя часть вакуумной камеры выполнена в виде съемного фланца, что обеспечивает при необходимости удобный доступ к технологическому оборудованию;
  • Возможность наносить покрытия на объемные образцы (опционально).

Опции:

  • Протяженный магнетрон;
  • Прогрев или охлаждение вакуумной камеры;
  • Карусельная оснастка / оснастка для крепления объемных образцов;
  • Автоматизация технологического процесса «по одной кнопке» с возможностью сохранения технологических карт;
  • Криогенный насос на замкнутом цикле.

          При изготовлении установок мы используем комплектующие от ведущих мировых производителей вакуумного оборудования.

 

Технические характеристики

 

Размер подложки, мм

до 75

Максимальная температура нагрева подложки, °С

350

Точность поддержания температуры подложки, °С

±10

Расстояние от источников до подложки, мм

50—300

Предельный вакуум, мбар

10-7

Установленная мощность, кВт

не более 9

Масса установки, кг

не более 400

Габаритный размер (Д×Ш×В), мм

800×1500×1850

 

Скачать полное описание