clock
Заказать звонок Мы вам перезвоним

Установка для исследования вторичной электронной эмиссии

Назначение

 

          Разработанная нашей компанией специальная установка для измерения коэффициента вторичной электронной эмиссии и работы выхода электронов позволяет проводить точные измерения этих величин для самых различных материалов.

Подробное описание оборудования

Скачать полное описаниеСкачать полное описание

Назначение

 

Установка для исследования вторичной электронной эмиссии

 

          Явление испускания твёрдыми телами вторичных электронов при бомбардировке их пучком первичных электронов лежит в основе многих современных методов анализа поверхности. Энергетические спектры и угловые распределения вторичных электронов содержат достаточно полную информацию об основных микроскопических характеристиках поверхности – составе, структуре, электронном строении.

 

          Явление вторичной электронной эмиссии лежит в основе принципа работы ряда электронных приборов, например, в фотоэлектронных умножителях, в электроннолучевых трубках с записью изображения в виде потенциального рельефа, в оже-спектрометрах.

Комплектация

 

3д модель в разрезе установки для исследования вторичной электронной эмиссии

 

Установка для исследования вторичной электронной эмиссии включает в себя следующие компоненты:

  • Вакуумную камеру из нержавеющей стали (Ø×Д 280×300 мм) с подставкой;
  • Системы форвакуумной и высоковакуумной откачки на основе турбомолекулярного и магниторазрядного насоса (предельный вакуум - 5∙10-8 торр);
  • Термокатодной электронной пушки с блоками питания (максимальная энергия –  3 кэВ, ток пучка – до 6 мА);
  • Коллектора электронов;
  • Антидинатронной сетки;
  • Нагреваемой мишени (до 600°С);
  • Системы измерения тока мишени и коллектора;
  • Высоковольтного источника питания для изменения запирающего потенциала.

Управление установкой производится в ручном режиме при помощи блока управления установкой.

Технические характеристики

 

Внутренние габариты вакуумной камеры (Ø×Д), мм

280×300

Температура прогрева камеры, °С

100

Тип высоковакуумной откачки

турбомолекулярный и магниторазрядный насос

Предельный вакуум, торр  

5∙10-8

Максимальная энергия ускоренных электронов, кэВ

3

Максимальный ток пучка электронов, мА

6

Охлаждение

водяное

Электропитание      

3-х фазное, 380 В±10%, 50 Гц±0,2%

Установленная мощность, кВт     

2

Габаритный размер Ш×В×Д, мм

1200×1550×700

Масса установки, кг           

не более 250

 

Скачать полное описание