Разработанная нашей компанией специальная установка для измерения коэффициента вторичной электронной эмиссии и работы выхода электронов позволяет проводить точные измерения этих величин для самых различных материалов.
Явление испускания твёрдыми телами вторичных электронов при бомбардировке их пучком первичных электронов лежит в основе многих современных методов анализа поверхности. Энергетические спектры и угловые распределения вторичных электронов содержат достаточно полную информацию об основных микроскопических характеристиках поверхности – составе, структуре, электронном строении.
Явление вторичной электронной эмиссии лежит в основе принципа работы ряда электронных приборов, например, в фотоэлектронных умножителях, в электроннолучевых трубках с записью изображения в виде потенциального рельефа, в оже-спектрометрах.
Установка для исследования вторичной электронной эмиссии включает в себя следующие компоненты:
Управление установкой производится в ручном режиме при помощи блока управления установкой.
Технические характеристики
Внутренние габариты вакуумной камеры (Ø×Д), мм |
280×300 |
Температура прогрева камеры, °С |
100 |
Тип высоковакуумной откачки |
турбомолекулярный и магниторазрядный насос |
Предельный вакуум, торр |
5∙10-8 |
Максимальная энергия ускоренных электронов, кэВ |
3 |
Максимальный ток пучка электронов, мА |
6 |
Охлаждение |
водяное |
Электропитание |
3-х фазное, 380 В±10%, 50 Гц±0,2% |
Установленная мощность, кВт |
2 |
Габаритный размер Ш×В×Д, мм |
1200×1550×700 |
Масса установки, кг |
не более 250 |