Top.Mail.Ru
Установка для исследования процессов нанесения тонких пленок
clock
Заказать звонок Мы вам перезвоним

Установка для исследования процессов нанесения тонких пленок

Подробное описание оборудования

Скачать полное описаниеСкачать полное описание

Описание

 

          Установка оснащена вакуумной камерой диаметром 70 см и длиной около 2 метров. Несмотря на большее количество фланцев, даже без прогрева камеры был получен вакуум 4×10–7 торр при использовании турбомолекулярных насосов. На двери камеры расположено большое количество смотровых окон для наблюдения за процессом напыления или размещения средств оптической диагностики покрытий.

 

          По умолчанию установка оснащена магнетронами и ионным источником для травления и ассистирования, подвижным подложкодержателем и тремя каналами подачи газа. Установка полностью автоматизирована, затворы и клапаны пневматические. Откачка может осуществляться как в режиме ручного управления, так и нажатием одной кнопки. Компьютерное управление системой напуска газа и системами питания магнетронов и ионного источника. Показания вакуумметров, параметры состояния насосов, затворов, расход газов отображаются на мониторе компьютера.

 

Технические характеристики

 

Технологические источники

Магнетроны, ионный источник

Размер вакуумной камеры (×Д), мм

700×2000

Система подачи газа

3 канала, оснащенные цифровыми регуляторами расхода газа

Система подогрева подложек

Галогенными лампами

Подложкодержатель

Вращаемый сервоприводом, с позиционированием, регулируемый по высоте, оснащен охлаждаемым вакуумным вводом движения

Вакуумная система

Высоковакуумный насос –турбомолекулярный, форвакуумный – масляной/безмасляной по запросу. Широкодиапазонный вакуумметр, форвакуумный вакуумметр

Предельный вакуум, торр

4×10–7

 

Скачать полное описание