Установка предназначена для исследования процессов нанесения тонких пленок с использованием технологий PVD или CVD напыления. Секционированная камера с большим количеством фланцев позволяет гибко модифицировать установку под различные задачи, в том числе с различными источниками напыления и разнообразным диагностическим оборудованием.
Скачать полное описание
Установка оснащена вакуумной камерой диаметром 70 см и длиной около 2 метров. Несмотря на большее количество фланцев, даже без прогрева камеры был получен вакуум 4×10–7 торр при использовании турбомолекулярных насосов. На двери камеры расположено большое количество смотровых окон для наблюдения за процессом напыления или размещения средств оптической диагностики покрытий.
По умолчанию установка оснащена магнетронами и ионным источником для травления и ассистирования, подвижным подложкодержателем и тремя каналами подачи газа. Установка полностью автоматизирована, затворы и клапаны пневматические. Откачка может осуществляться как в режиме ручного управления, так и нажатием одной кнопки. Компьютерное управление системой напуска газа и системами питания магнетронов и ионного источника. Показания вакуумметров, параметры состояния насосов, затворов, расход газов отображаются на мониторе компьютера.
Технические характеристики
Технологические источники | Магнетроны, ионный источник |
Размер вакуумной камеры (⌀×Д), мм | 700×2000 |
Система подачи газа | 3 канала, оснащенные цифровыми регуляторами расхода газа |
Система подогрева подложек | Галогенными лампами |
Подложкодержатель | Вращаемый сервоприводом, с позиционированием, регулируемый по высоте, оснащен охлаждаемым вакуумным вводом движения |
Вакуумная система | Высоковакуумный насос –турбомолекулярный, форвакуумный – масляной/безмасляной по запросу. Широкодиапазонный вакуумметр, форвакуумный вакуумметр |
Предельный вакуум, торр | 4×10–7 |
