Лабораторная установка ионно-лучевого травления EPOS-ION-ETCH - это настольное исследовательское оборудование, предназначенное для травления металлических материалов в среде инертных и реактивных газов в вакууме.
Особенности установки:
- Ионный источник типа Бернаса с электростатической системой формирования пучка;
- Специально разработанная система питания;
- Возможность нагрева образцов диаметром до 20 мм до 50–900°С и наклона относительно пучка на 0–45° с высокой точностью.
