Установка предназначена для разработки и применения высокоэффективных промышленных технологий синтеза высококачественных аддитивных металлических порошков для их использования в технологическом цикле построения сложнопрофильных деталей методами селективного лазерного плавления/спекания.
Скачать полное описание
Плазменная установка обеспечивает производство порошков аддитивного качества методом плазменного центробежного распыления и последующей конденсации в среде аргона. Система работает с использованием химической нейтрализации кислорода, при атмосферном давлении, с регулировкой размеров производимых частиц.
Установка оснащена непрерывной загрузкой фидштоков и разгрузкой готовой продукции.
Транспортировка произведенных порошков для последующей технологической обработки производится пневматической системой.
В процессе проектирования были рассмотрены все конструкторско-технологические схемы организации процесса распыления металла. Были решены вопросы выбора типа и конструкции плазмотрона, организации и поддержания защитной атмосферы в технологической зоне.
В установке применено ноу-хау позволяющее достичь эффекта полной самобалансировки вращающихся масс, что позволяет уменьшить металлоёмкость конструкции, увеличить срок службы, а также снизить требования к геометрии распыляемой заготовки.
Напряжение питающей сети, В | 380±10% |
Номинальная частота, Гц | 50±1 |
Число фаз | 3 |
Установленная мощность, кВт | 60 |
Выходная фракция порошка, мкм | 20-120 |
Тип установки | Плазменная, центробежного распыления |
Производительность, кг/час – по плавлению – технологическая |
55 30 |
Материал заготовок | Жаропрочные, никелевые сплавы |
Размеры переплавляемой заготовки: диаметр, мм длина, мм масса, кг |
25±2 500 2 |
Частота вращения заготовки, мин-1 | до 24000 |
Диаметр барабана, мм | 200 |
Длина барабана, мм | 550 |
Мощность электродвигателя барабанов, кВт | 10 |
Газова среда | Ar, He, их смесь |
Давление газа в камере (избыточное), Па | до 400 |
Система газоснабжения | замкнутая |
Система водоснабжения | замкнутая |
Тип плазменного узла | коаксильный с вешней магнитной системой |
Ток дуги, А, не более | 500 |
Напряжение дуги, В, не более | 80 |
Мощность плазмотрона, кВт | 40 |
Мощность источника питания, кВт, не более | 50 |
Тип источника питания | ИПП-50-500 |
Габаритные размеры, мм, не более: длина ширина высота |
3000 3000 3500 |
Масса, кг | 350 |
В процессе проектирования были рассмотрены вопросы несколько конструкторско-технологических схем, касающихся организации процесса распыления металла. Были решены вопросы выбора типа и конструкции плазмотрона, организации и поддержания защитной атмосферы в технологической зоне и прочее.
В качестве дальнейшего развития существующей установки АПД/АПП 30.1-30, была рассмотрена конструкторско-технологическая схема, позволяющая достичь эффекта частичной или полной самобалансировки вращающихся масс, что позволяет уменьшить металлоёмкость конструкции, увеличить срок её службы, а также снизить требования к геометрии распыляемой заготовки.
