clock
Заказать звонок Мы вам перезвоним

Плазмотрон и Атомизатор для производства порошков

Назначение:

 

          Установка предназначена для разработки и применения высокоэффективных промышленных технологий синтеза высококачественных аддитивных металлических порошков для их использования в технологическом цикле построения сложнопрофильных деталей методами селективного лазерного плавления/спекания.

Подробное описание оборудования

Скачать полное описание Скачать полное описание

Описание:

 

Принцип работы установки:

 

          Плазменная установка обеспечивает производство порошков аддитивного качества методом плазменного центробежного распыления и последующей конденсации в среде аргона. Система работает с использованием химической нейтрализации кислорода, при атмосферном давлении, с регулировкой размеров производимых частиц.

 

          Установка оснащена непрерывной загрузкой фидштоков и разгрузкой готовой продукции.

 

          Транспортировка произведенных порошков для последующей технологической обработки производится пневматической системой.

 

Особенности установки:

 

          В процессе проектирования были рассмотрены все конструкторско-технологические схемы организации процесса распыления металла. Были решены вопросы выбора типа и конструкции плазмотрона, организации и поддержания защитной атмосферы в технологической зоне.

 

          В установке применено ноу-хау позволяющее достичь эффекта полной самобалансировки вращающихся масс, что позволяет уменьшить металлоёмкость конструкции, увеличить срок службы, а также снизить требования к геометрии распыляемой заготовки.

 Технические характеристики

 

Напряжение питающей сети, В

380±10%

Номинальная частота, Гц

50±1

Число фаз

3

Установленная мощность, кВт

60

Выходная фракция порошка, мкм

20-120

Тип установки

Плазменная, центробежного распыления

Производительность, кг/час

– по плавлению

– технологическая

 

55

30

Материал заготовок

Жаропрочные, никелевые сплавы

Размеры переплавляемой заготовки:

диаметр, мм

длина, мм

масса, кг

 

25±2

500

2

Частота вращения заготовки, мин-1

до 24000

Диаметр барабана, мм

200

Длина барабана, мм

550

Мощность электродвигателя барабанов, кВт

10

Газова среда

Ar, He, их смесь

Давление газа в камере (избыточное), Па

до 400

Система газоснабжения

замкнутая

Система водоснабжения

замкнутая

Тип плазменного узла

коаксильный с вешней магнитной системой

Ток дуги, А, не более

500

Напряжение дуги, В, не более

80

Мощность плазмотрона, кВт

40

Мощность источника питания, кВт, не более

50

Тип источника питания

ИПП-50-500

Габаритные размеры, мм, не более:

длина

ширина

высота

 

3000

3000

3500

Масса, кг

350

Преимущества установки:

 

  • Повышенный КПД – 95-98%. За счет плазмотрона коаксиального типа с вынесенной дугой и эффективной системой энергообмена плазмы со слитком;
  • Отсутствие вакуумной системы. Кислород из камеры удаляется химическим путём, что существенно уменьшает стоимость установки;
  • Регулирование производительности. Широкий диапазон видов распыляемых заготовок, что позволяет изменять производительность установки;

Опыт разработки:

 

          В процессе проектирования были рассмотрены вопросы несколько конструкторско-технологических схем, касающихся организации процесса распыления металла. Были решены вопросы выбора типа и конструкции плазмотрона, организации и поддержания защитной атмосферы в технологической зоне и прочее.

 

          В качестве дальнейшего развития существующей установки АПД/АПП 30.1-30, была рассмотрена конструкторско-технологическая схема, позволяющая достичь эффекта частичной или полной самобалансировки вращающихся масс, что позволяет уменьшить металлоёмкость конструкции, увеличить срок её службы, а также снизить требования к геометрии распыляемой заготовки.

 

Скачать полное описание