Установка предназначена для разработки и применения высокоэффективных промышленных технологий синтеза высококачественных аддитивных металлических порошков для их использования в технологическом цикле построения сложнопрофильных деталей методами селективного лазерного плавления/спекания.
Скачать полное описание
Плазменная установка обеспечивает производство порошков аддитивного качества методом плазменного центробежного распыления и последующей конденсации в среде аргона. Система работает с использованием химической нейтрализации кислорода, при атмосферном давлении, с регулировкой размеров производимых частиц.
Установка оснащена непрерывной загрузкой фидштоков и разгрузкой готовой продукции.
Транспортировка произведенных порошков для последующей технологической обработки производится пневматической системой.
В процессе проектирования были рассмотрены все конструкторско-технологические схемы организации процесса распыления металла. Были решены вопросы выбора типа и конструкции плазмотрона, организации и поддержания защитной атмосферы в технологической зоне.
В установке применено ноу-хау позволяющее достичь эффекта полной самобалансировки вращающихся масс, что позволяет уменьшить металлоёмкость конструкции, увеличить срок службы, а также снизить требования к геометрии распыляемой заготовки.
|
Напряжение питающей сети, В |
380±10% |
|
Номинальная частота, Гц |
50±1 |
|
Число фаз |
3 |
|
Установленная мощность, кВт |
60 |
|
Выходная фракция порошка, мкм |
20-120 |
|
Тип установки |
Плазменная, центробежного распыления |
|
Производительность, кг/час – по плавлению – технологическая |
55 30 |
|
Материал заготовок |
Жаропрочные, никелевые сплавы |
|
Размеры переплавляемой заготовки: диаметр, мм длина, мм масса, кг |
25±2 500 2 |
|
Частота вращения заготовки, мин-1 |
до 24000 |
|
Диаметр барабана, мм |
200 |
|
Длина барабана, мм |
550 |
|
Мощность электродвигателя барабанов, кВт |
10 |
|
Газова среда |
Ar, He, их смесь |
|
Давление газа в камере (избыточное), Па |
до 400 |
|
Система газоснабжения |
замкнутая |
|
Система водоснабжения |
замкнутая |
|
Тип плазменного узла |
коаксильный с вешней магнитной системой |
|
Ток дуги, А, не более |
500 |
|
Напряжение дуги, В, не более |
80 |
|
Мощность плазмотрона, кВт |
40 |
|
Мощность источника питания, кВт, не более |
50 |
|
Тип источника питания |
ИПП-50-500 |
|
Габаритные размеры, мм, не более: длина ширина высота |
3000 3000 3500 |
|
Масса, кг |
350 |
В процессе проектирования были рассмотрены вопросы несколько конструкторско-технологических схем, касающихся организации процесса распыления металла. Были решены вопросы выбора типа и конструкции плазмотрона, организации и поддержания защитной атмосферы в технологической зоне и прочее.
В качестве дальнейшего развития существующей установки АПД/АПП 30.1-30, была рассмотрена конструкторско-технологическая схема, позволяющая достичь эффекта частичной или полной самобалансировки вращающихся масс, что позволяет уменьшить металлоёмкость конструкции, увеличить срок её службы, а также снизить требования к геометрии распыляемой заготовки.
