Плазмотроны вакуумные с ионной активацией

Вакуумно-дуговая установка для нанесения толстых покрытий.

Метод нанесения покрытия:

Покрытия наносятся методом КИБ (конденсация вещества с ионной бомбардировкой). Вследствие равномерного характера осаждения, при нанесении покрытия на инструменты из твердого сплава, не вызывает притупление острой кромки, следовательно, может с успехом использоваться для упрочнения даже мелкоразмерного инструмента.

Рис 1.  Действующее производство с вакуумными установками для нанесения металлов с плазменной активацией плазмотроном с полым катодом.

Особенности:

• Возможность поочередного напыления не менее 4-х материалов за один технологический процесс;
• Удобное визуальное фиксирование начала и конца испарения материалов  (3 окна);
• Ток испарителя задается контроллером по временной диаграмме;
• Очистка подложки осуществляется плазменным ионным источником без повреждения структуры;
• Измерение плотности потока испаряемого вещества ионизационными датчиками.

Рис 2. Вакуумные установки с плазменной ионной активацией для нанесения покрытий высокой твердости (Машиностроительный завод, Алтайский край)

          Наносятся следующих типы покрытий: TiN; ZrN; TiAlN; CrN; CrTiN; AlTiCrN; TiCN; (Ti,Al)CN; алмазоподобные покрытия.

Преимущества:

В установке реализовано принципиально новое устройство плазменно-дуговой ионизатор с полым катодом, для очистки и активации поверхности.

• Использование установки с плазменной ионной активацией позволяет получить качество покрытий выше, чем полученных по традиционным технологиям упрочнения нитридом титана, и превосходящие по твердости карбиды вольфрама.
• Применяются современные инверторные блоки питания, вакууметры, пирометры и т.д.
• Все данные и схема технологического процесса выводятся на дисплей. Полная автоматизация процесса для уменьшения влияния человеческого фактора, увеличения производительности установки, снижения требований к квалификации оператора установки на серийном производстве продукта, снижения количества брака, создания и сохранения карт техпроцессов.
• Для обеспечения безаварийной и безопасной работы на установке предусмотрены блокировки.
• Установка быстро автоматически откачивается с атмосферы на высокий вакуум. Полное управление техпроцессом осуществляется посредством пользовательского интерфейса с возможностью записи и последующей загрузки сохранённых карт техпроцесса.
• Для подачи и коммутации смеси реакционных газов с аргоном используется до трех прецизионных цифровых регуляторов расхода газа и электромагнитные клапаны. Полная автоматизация, с сохранением и воспроизведением последовательности действий технологических процессов.

Опциональное оснащение установок:

Скачать полное описание