Универсальная установка напыления тонких пленок

универсальная установка напыления тонких пленок

Назначение:

Установка (EPOS‐PVD‐E-Mag)- это универсальная установка напыления тонких пленок, предназначенная для воспроизводимого получения качественных нанометровых и микронных твердых пленок из металлов, оксидов и диэлектриков.

Универсальность установки в полной комплектации определяется разнообразием способов напыления: термическое, электронно-лучевое и магнетронное. Благодаря этому установка популярна в научно-исследовательской деятельности в сферах материаловедения, приборостроения, оптики, нанотехнологий и многих других.

Универсальная установка напыления тонких пленок
Характеристики базовой комплектации EPOSPVDE-Mag с опциями
Входное напряжение, ф/В/Гц 3/380/50
Максимальная потребляемая мощность, кВт 9 (с электронно-лучевым испарителем и нагревом подложек)
Источник питания магнетронов 2-канальный DC источник питания 1500 Вт – 1 шт.
Опционально: 3х-канальный.
Опционально: 3000 Вт.
Опционально питание ВЧ 13,56 МГц с автоматическим согласующим устройством.
Магнетроны Магнетрон DC-RF с мишенью 3” (75 мм) – 1 шт;
·         Охлаждение: водяное – от 2 л/мин;
·         Ручная заслонка;
·         Регулируемая высота до 120 мм.
Опционально может быть снабжен газовым кольцом для подачи газа непосредственно в область разряда
Опционально: до 2-х Магнетронов DC-RF + 1 ионный источник
ОПЦИЯ: Электронно-лучевой испаритель (ЭЛИ) с источником питания Катодный узел легкосъемный с поворотом луча на 270о.
Корпус водоохлаждаемый, материал медь.
Наличие настраиваемой фокусировки луча.
Гибкие высоковольтные вакуумные вводы для накала.
Опционально: система электромагнитного отклонения луча.
ОПЦИЯ: Система термического напыления Тугоплавкая лодочка на охлаждаемых электрических вводах. Программируемая стабилизация тока в лодочке.
Вакуумная камера Материал: нержавеющая сталь
Форма камеры: D-образная
Размеры: длина -400 мм; ширина – 400 мм; высота – 450 мм.
Прозрачное смотровое окно диаметром 100 мм с защитным стеклом.
Большая дверца с регулировкой прижатия
Подставка для камеры со съемными защитно-декоративными панелями.
Наличие 3х фланцев ISO 100, фланцы «болт», kf40 и др.
Возможность установки 2х магнетронов и ЭЛИ, либо 3х магнетронов и системы термического напыления.
Опционально: автоматическая заслонка источников
Опционально: дополнительные фланцы – по согласованию
Подложкодержатель Размеры: диаметр 370 мм,
Область поддерживаемой однородности – 70 мм;
·         Подъем столика до 60 мм.
Регулировка скорости вращения в диапазоне от 1 до 20 об/мин.
Позиционирование подложек шаговым двигателем.
Четыре позиции контролируются по оптическим датчикам с точностью 1 мм.
Нагрев 0 ÷ 350 °С. Контролируется ПИД-регулятором с обратной связью по термопаре
Согласованный термопарный ввод К типа.Опционально: Нагрев до 650 °С.
Регулятор расхода газа и газовая магистраль 3 канала подачи чистых газов (аргон, кислород, азот, …) содержат электронные регуляторы расхода газа и отсечные клапаны;
Вакуумная система ·         максимальный уровень вакуума: 10-4 Па.
·         высокоэффективный безмасляный турбомолекулярный насос;
·         спиральный или пластинчато-роторный насос;
·         высоковакуумные клапаны обеспечивают байпасную откачку и отсечение турбомолекулярного насоса;
·         широкодиапазонный вакуумметр.
ОПЦИЯ: Водяное охлаждение Промышленная установка охлаждения жидкости (чиллер) CSW производства ATS S.r.l.
ОПЦИЯ: Контроль толщины покрытий 1.   Один прецизионный датчик толщины покрытий с точностью 0,1 Å

2.   Интегрирован в систему управления установкой
3.   Связь с компьютером по RS485, USB
4.   База с напыляемыми материалами
5.   Отображение толщины покрытия на кристалле и скорости напыления
6.   10 запасных кристаллов
7.   Водяное охлаждение
Опционально: заслонка датчика

Особенность установки:

  1. Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах.
  2. Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов.
  3. Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя.
  4. Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650оС.
  5. Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1оС.

Многофункциональность установки EPOSPVDE-Mag подразумевает широкий выбор элементов и систем непосредственно для Ваших нужд и задел для модернизации установки, что позволит Вам дополнять и расширять Ваши производственные возможности в будущем.

На каждом из этапов, высококвалифицированные специалисты «ЭПОС-Инжиниринг» помогут Вам:

  • подберут наилучшую комплектацию для получения пленок из интересующих Вас материалов и требуемых параметров;
  • разработают устройство позиционирования подложек с необходимой точностью;
  • разработают оснастку для загрузки необходимого количества Ваших подложек;
  • обеспечат вращение и обогрев/охлаждение подложкодержателя;
  • оснастят необходимыми измерительными приборами;
  • снабдят подходящими откачными системами;
  • автоматизируют рабочий процесс для удобства работы с установкой;
  • обеспечат доставку и обучение (онлайн/оффлайн).

Более 5 установок EPOSPVDE-Mag было продано с 2018 года на территории СНГ. Например, установка работает на нескольких факультетах ФГБОУ ВО «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники».