Универсальная установка напыления тонких пленок – EPOS‐PVD‐E-Mag
Назначение:
EPOS‐PVD‐E–Mag — это универсальная установка напыления тонких пленок, предназначенная для воспроизводимого получения качественных нанометровых и микронных твердых пленок из металлов, оксидов и диэлектриков.
Универсальность установки в полной комплектации определяется разнообразием способов напыления: термическое, электронно-лучевое и магнетронное. Благодаря этому установка популярна в научно-исследовательской деятельности в сферах материаловедения, приборостроения, оптики, нанотехнологий и многих других. Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах. Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя. Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650оС. Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1оС.
Уникальный опыт и производственные возможности позволяют нашей компании предложить Вам высококачественное оборудование EPOS‐PVD‐E-Mag по доступной цене.
Многофункциональность установки EPOS‐PVD‐E-Mag подразумевает широкий выбор элементов и систем непосредственно для Ваших нужд и задел для модернизации установки, что позволит Вам дополнять и расширять Ваши производственные возможности в будущем. На каждом из этапов, высококвалифицированные специалисты «ЭПОС-Инжиниринг» помогут Вам:
- подберут наилучшую комплектацию для получения пленок из интересующих Вас материалов и требуемых параметров;
- разработают устройство позиционирования подложек с необходимой точностью;
- разработают оснастку для загрузки необходимого количества Ваших подложек;
- обеспечат вращение и обогрев/охлаждение подложкодержателя;
- оснастят необходимыми измерительными приборами;
- снабдят подходящими откачными системами;
- автоматизируют рабочий процесс для удобства работы с установкой;
- обеспечат доставку и обучение (онлайн/оффлайн).
Более 5 установок EPOS‐PVD‐E-Mag было продано с 2018 года на территории СНГ. Например, установка работает на нескольких факультетах ФГБОУ ВО «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники».
| Характеристики базовой комплектации EPOS‐PVD‐E-Mag с опциями | |
| Входное напряжение, ф/В/Гц | 3/380/50 |
| Максимальная потребляемая мощность, кВт | 9 (с электронно-лучевым испарителем и нагревом подложек) |
| Источник питания магнетронов | 2-канальный DC источник питания 1500 Вт – 1 шт. Опционально: 3х-канальный. Опционально: 3000 Вт. Опционально питание ВЧ 13,56 МГц с автоматическим согласующим устройством. |
| Магнетроны | Магнетрон DC-RF с мишенью 3” (75 мм) – 1 шт; · Охлаждение: водяное – от 2 л/мин; · Ручная заслонка; · Регулируемая высота до 120 мм. Опционально может быть снабжен газовым кольцом для подачи газа непосредственно в область разряда Опционально: до 2-х Магнетронов DC-RF + 1 ионный источник |
| ОПЦИЯ: Электронно-лучевой испаритель (ЭЛИ) с источником питания | Катодный узел легкосъемный с поворотом луча на 270о. Корпус водоохлаждаемый, материал медь. Наличие настраиваемой фокусировки луча. Гибкие высоковольтные вакуумные вводы для накала. Опционально: система электромагнитного отклонения луча. |
| ОПЦИЯ: Система термического напыления | Тугоплавкая лодочка на охлаждаемых электрических вводах. Программируемая стабилизация тока в лодочке. |
| Вакуумная камера | Материал: нержавеющая сталь Форма камеры: D-образная Размеры: длина -400 мм; ширина – 400 мм; высота – 450 мм. Прозрачное смотровое окно диаметром 100 мм с защитным стеклом. Большая дверца с регулировкой прижатия Подставка для камеры со съемными защитно-декоративными панелями. Наличие 3х фланцев ISO 100, фланцы «болт», kf40 и др. Возможность установки 2х магнетронов и ЭЛИ, либо 3х магнетронов и системы термического напыления. Опционально: автоматическая заслонка источников Опционально: дополнительные фланцы – по согласованию |
| Подложкодержатель | Размеры: диаметр 370 мм, Область поддерживаемой однородности – 70 мм; · Подъем столика до 60 мм. Регулировка скорости вращения в диапазоне от 1 до 20 об/мин. Позиционирование подложек шаговым двигателем. Четыре позиции контролируются по оптическим датчикам с точностью 1 мм. Нагрев 0 ÷ 350 °С. Контролируется ПИД-регулятором с обратной связью по термопаре Согласованный термопарный ввод К типа.Опционально: Нагрев до 650 °С. |
| Регулятор расхода газа и газовая магистраль | 3 канала подачи чистых газов (аргон, кислород, азот, …) содержат электронные регуляторы расхода газа и отсечные клапаны; |
| Вакуумная система | · максимальный уровень вакуума: 10-4 Па. · высокоэффективный безмасляный турбомолекулярный насос; · спиральный или пластинчато-роторный насос; · высоковакуумные клапаны обеспечивают байпасную откачку и отсечение турбомолекулярного насоса; · широкодиапазонный вакуумметр. |
| ОПЦИЯ: Водяное охлаждение | Промышленная установка охлаждения жидкости (чиллер) CSW производства ATS S.r.l. |
| ОПЦИЯ: Контроль толщины покрытий | 1. Один прецизионный датчик толщины покрытий с точностью 0,1 Å
2. Интегрирован в систему управления установкой |