Назначение
Лабораторная EPOS-PVD-E-MAG-400 – это универсальная вакуумная установка напыления тонких пленок, предназначенная для воспроизводимого получения качественных нанометровых и микронных твердых пленок из металлов, оксидов и диэлектриков, термобарьерных, композитных и оптических покрытий. Универсальность установки EPOS‐PVD‐E-Mag определяется широким выбором способов напыления: термического, электронно-лучевого и магнетронного. Благодаря этому установка широко используется для применения в микро- и наноэлектронике, оптике, фотонике, создании 2D структур и функционализированных покрытий.
Описание
Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой.
Особенности
- • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах;
- • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя;
- • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С;
- • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С.
- • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов.
Преимущество
Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.
Универсальная вакуумная установка: различные варианты исполнения и конфигурации
ПАРАМЕТР | ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ |
Входное напряжение, ф/В/Гц | 3/380/50 |
Максимальная потребляемая мощность, кВт | 9 (с электронно-лучевым испарителем и нагревом подложек). |
Вакуумная камера | - Материал: нержавеющая сталь;
- Форма камеры: D-образная;
- Размеры: длина – 400 мм; ширина – 400 мм; высота – 450 мм;
- Прозрачное смотровое окно диаметром 100 мм с защитным стеклом;
- Большая дверца с регулировкой прижатия;
- Подставка для камеры со съемными защитно-декоративными панелями;
- Наличие 4х фланцев ISO 100, фланцы «болт», KF40 и др;
- Возможность установки 3х магнетронов и ЭЛИ, либо 3х магнетронов и системы термического напыления.
Опционально:
- Автоматическая заслонка источников.
|
Различные варианты конфигурации и сочетания способов нанесения покрытий:
- ЭЛИ + Ионный источник
- 2 Магнетрона + ЭЛИ
- 3 Магнетрона + система термического напыления
- 3 Магнетрона DC/RF + Ионный источник
|
Магнетроны | - Магнетрон DC-RF с мишенью 3” (76,2 мм);
- Датчик толщины покрытий;
- Охлаждение: водяное – от 2 л/мин;
- Ручная заслонка;
- Регулируемая высота до 120 мм.
Опционально:
- Газовое кольцо для подачи газа непосредственно в область разряда
|
Источник питания магнетронов | - 2-канальный DC источник питания 1500 Вт – 1 шт.
Опционально:
- 3х-канальный DC источник питания 3000 Вт.
- ВЧ источник питания 13,56 МГц с автоматическим согласующим устройством.
|
Ионный источник | - Щелевой ионный источник с анодным слоем или типа «End-Hall»;
- Блок питания ионного источника.
|
1 тигельный электронно-лучевой испаритель (ЭЛИ) с источником питания | - Катодный узел легкосъемный с поворотом луча на 270°.
- Корпус водоохлаждаемый, материал медь.
- Наличие настраиваемой фокусировки луча.
- Гибкие высоковольтные вакуумные вводы для накала.
Опционально:
- система электромагнитного отклонения луча.
|
Система термического напыления | - Тугоплавкая лодочка на охлаждаемых электрических вводах. Программируемая стабилизация тока в лодочке.
|
Подложкодержатель | - Диаметр 370 мм.
- Подъем столика до 60 мм.
- Регулировка скорости вращения в диапазоне от 1 до 20 об/мин.
- Позиционирование подложек шаговым двигателем.
- Четыре позиции контролируются по оптическим датчикам с точностью 1 мм.
- Нагрев 0 ÷ 350 °С. Контролируется ПИД-регулятором с обратной связью по термопаре
- Согласованный термопарный ввод К типа.
Опционально:
|
Регулятор расхода газа и газовая магистраль | - 3 канала подачи чистых газов (аргон, кислород, азот и др.) содержат электронные регуляторы расхода газа и отсечные клапаны.
|
Вакуумная система | - Максимальный уровень вакуума: 10-4Па.
- Высокоэффективный турбомолекулярный насос производительностью 150 л/с;
- Безмасляный спиральный или пластинчато-роторный форвакуумный насос;
- высоковакуумные клапаны обеспечивают байпасную откачку и отсечение турбомолекулярного насоса;
- широкодиапазонный вакуумметр.
Опционально: Высокоэффективный турбомолекулярный насос производительностью 300, 700 л/с в зависимости от задач |
ОПЦИЯ: Контроль толщины покрытий | - Прецизионный датчик толщины покрытий с
- разрешением до 0,1 Å;
- Отображение толщины покрытия на кристалле и
- скорости напыления.
Опционально:
|
