Назначение
EPOS-PVD-DESK-PRO– это оптимальное решение для производственных задач и научно-исследовательской деятельности. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и процесса напыления. Предназначена для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований в областях материаловедения, приборостроения, электроники, нанесения оптических покрытий, микромеханических устройств и др.
Описание
Настольная установка магнетронного напыления с высокопроизводительной откачкой, двумя магнетронами диаметром 1, 2, 3” и одним ионным источником с анодным слоем. Применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 270мм. Современные специализированные источники питания повышенной мощности с быстрым дугогашением обеспечивают стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Технология прямого контакта охлаждения с мишенью позволяет получать пленки с более равномерной морфологией и меньшим размером зерна. Может комплектоваться: ВЧ магнетроном, нагревателями до 450 или 800 ºС, датчиком толщины плёнки.
Особенности
- • Полностью безмаслянная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий;
- • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами.
- • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий;
- • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован;
- • Возможность водяного охлаждения камеры;
- • Может комплектоваться: нагревателем подложки до 450 или 800°С,
ВЧ магнетроном, резистивным испарителем углерода, пневмоприводом заслонок магнетронов.
Преимущество
Вакуумная камера, выполненная из нержавеющей стали, оптимизированная для процесса напыления в малом объёме и обеспечивающая распыление сверху вниз. Широкий выбор магнетронов диаметром 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) в DC и RF исполнении. Ионный источник позволяет производить очистку подложек и ассистировать в процессе напыления тонких пленок. Возможность полной автоматизации процесса напыления: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автоматизированных заслонок магнетронов с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Дополнительные опции и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд.
Настольная установка магнетронного напыления различные варианты исполнения и конфигурации:
ПАРАМЕТР | ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ |
Входное напряжение, ф/В/Гц | 3/380/50 |
Максимальная потребляемая мощность, кВт | 5 |
Вакуумная камера | - Материал: нержавеющая сталь;
- Размеры: диаметр – 317 мм, высота – 400 мм;
- Прозрачное смотровое окно диаметром 100 мм.
|
Магнетроны | - Магнетрон DC-RF 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) с мишенью – 2;
- Ручная заслонка -2;
- Охлаждение: водяное – от 2 л/мин;
- Регулируемая высота до 120 мм.
|
Ионный источник | - Щелевой ионный источник с анодным слоем – 1.
|
Контроль толщины покрытий | - Один прецизионный датчик толщины покрытий с разрешением до 0,1 Å;
- Отображение толщины покрытия на кристалле и скорости напыления;
- Ручная заслонка на кристалл.
|
Источники питания | - 2-канальный DC источник питания 1500 Вт – 1;
- Блок питания ионного источника – 1;
- Либо 1-канальный RF источник питания 500 Вт.
|
Подложкодержатель | - Размеры: диаметр 270 мм;
- Нагрев до 450 °С с точностью (на нагревателе) ±1 ºС;
- Регулируемое вращение с скоростью 1÷20 об/мин;
- Подъем столика до 60 мм, точное позиционирование ~1мм.
|
Регулятор расхода газа | - Электронный регулятор расхода – 2 или 3 шт. Позволяют регулировать поток аргона, кислорода, азота и их смеси. Отсекаются электромагнитными вакуумными клапанами.
|
Вакуумная система | - Высоковакуумный турбомолекулярный насос 150 л/с;
- Безмасляный спиральный форвакуумный насос;
- Макс. уровень вакуума: 5×10-⁶ мбар;
- Высоковакуумные изолирующие клапаны.
|
ОПЦИИ
| - Возможность водяного охлаждения камеры;
- Газовое кольцо на магнетроны для подачи газа в
- Нагрев подложки до 450 или 800°С;
- 1-канальный RF источник питания 500 Вт.
- Резистивный испаритель углерода;
- Пневмопривод заслонок магнетронов.
|
