Назначение
EPOS-PVD-DESK-STD в стандартном исполнении – это оптимальное решение для целей и задач учебного процесса в ВУЗах, а также научно-исследовательской деятельности. Предназначена для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований в областях материаловедения, приборостроения, электроники, нанесения оптических покрытий, микромеханических устройств и др.
Описание
Настольная установка магнетронного напыления с одним, двумя или тремя магнетронами применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 100 мм. Источник питания повышенной мощности обеспечивает стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Технология косвенного контакта охлаждения с мишенью исключает риск попадания воды при смене мишени. Отсутствует уплотнение вода-вакуум.
Особенности
- • Возможность нанесения Ag, Au и С для подготовки SEM образцов;
- • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий;
- • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий;
- • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован;
- • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий;
- • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами.
Преимущество
Вакуумная камера, выполненная из нержавеющей стали, оптимизированная для процесса напыления в малом объёме и обеспечивающая распыление сверху вниз. Широкий выбор магнетронов диаметром 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) в DC и RF исполнении. Дополнительные опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд.
Состав установки и опции:
ПАРАМЕТР | ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ |
Входное напряжение, ф/В/Гц | 3/380/50 |
Максимальная потребляемая мощность, кВт | не более 2,5 |
Вакуумная камера | - Материал: нержавеющая сталь;
- Диаметр камеры – 317 мм;
- Прозрачное смотровое окно диаметром 100 мм.
|
Магнетроны | - Магнетрон DC-RF 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) с мишенью;
- Ручная заслонка;
- Охлаждение: водяное – от 2 л/мин;
|
Источник питания магнетронов | - 2-канальный DC источник питания 1500 Вт – 1 шт.;
|
Подложкодержатель | - Размещение 3 шт. подложек Ф100 мм или 6 шт. Ф 50 мм.
- Нагрев до 350 °С с точностью (на нагревателе) ±1 ºС;
- Нагреватель расположен под одним из магнетронов;
- Регулируемое вращение с скоростью 1÷20 об/мин;
- Точное позиционирование ~ 1мм.;
- Диапазон регулировки подложкодержателя 60 мм.
|
Регулятор расхода газа | - Электронный регулятор расхода – 1 или 2 шт. Позволяют регулировать поток аргона, кислорода, азота и их смеси. Отсекаются электромагнитными вакуумными клапанами.
|
Вакуумная система | - Высоковакуумный турбомолекулярный насос 70 л/с;
- Безмасляный мембранный насос;
- Макс. уровень вакуума: 1×10-⁵ мбар.
|
ОПЦИИ
| - Газовое кольцо на магнетроны для подачи газа в
- 1-канальный RF источник питания 500 Вт.
- Один прецизионный датчик толщины покрытий с разрешением до 0,1 Å;
Отображение толщины покрытия на кристалле и скорости напыления; Ручная заслонка на кристалл. |
Так же изготавливаем многофункциональную настольную вакуумную установку для производственных задач и научно-исследовательской деятельности
Скачать полное описание
