clock
Заказать звонок Мы вам перезвоним

Установки нанесения покрытий (CVD)

          Химическое осаждение из газовой фазы (ХОГФ, или англ. Chemical vapor deposition, CVD) – метод получения тонких пленок, осуществляется при помощи, как правило, высокотемпературных реакций разложения и взаимодействия газообразных прекурсоров на подложке, образующих покрытие.

 

          При осаждении покрытий CVD методами подложка помещается в реактор, в который подаются пары одного или нескольких веществ, вступающих в реакцию или разлагающихся на поверхности нагретой подложки или вблизи нее, осаждаясь в виде тонкой пленки.

Наша компания имеет опыт разработки и производства установок для химического осаждения из газовой фазы с различными способами активации.


 

 

Установка плазмохимического осаждения слоев из газовой фазы - EPOS-PECVD-100
Установка плазмохимического осаждения слоев из газовой фазы - EPOS-PECVD-100 Установки нанесения покрытий (CVD)
Установка осаждения металлорганических соединений из газовой фазы - EPOS-MOCVD
Установка осаждения металлорганических соединений из газовой фазы - EPOS-MOCVD Установки нанесения покрытий (CVD)
Обратная связь

Я соглашаюсь на обработку моих персональных данных.