clock
Заказать звонок Мы вам перезвоним

Высокотемпературная вертикальная вакуумная печь - EPOS-VACFURN-2000

Подробное описание оборудования

Назначение
          Установка EPOS- VACFURN -2000 – высокотемпературная вертикальная вакуумная печь с возможностью создания газовой атмосферы высокой чистоты, с зоной нагрева из вольфрама с температурой изделий до 2000 °C.
 
          Предназначена для проведения процессов вакуумной термообработки: спекание, выращивание кристаллов из расплава, самораспространяющийся высокотемпературный синтез (СВС) азотированных керамических и металлокерамических материалов, ферросплавов, интерметаллидов тугоплавких металлов, а также для вакуумной пайки инструментов из сплавов и сверхтвердых материалов, закалки, отжига, дегазации. Печь позволяет выполнять высококачественную бездефектную вакуумную пайку и пайку в специальной атмосфере (технологическом газе или вакууме), высокотемпературный отжиг выращенных плёнок силовых приборов и изделий микроэлектроники;
 
          Вакуумные печи широко используются в атомной, электронной, авиационной и других отраслях промышленности.
 
Описание
          Печь EPOS- VACFURN -2000 c вертикально расположенной вакуумной камерой колпакового типа, с опускающимся механизированным подом и вертикальной загрузкой материалов и полуфабрикатов, устанавливается на раму с декоративными, легкосъемными панелями. Источник питания и пульт управления расположены в непосредственной близости к рабочей камере.
 
          Данная конструкция обеспечивает достижение глубокого вакуума (в холодном состоянии – не хуже 1·10-3 Па). Печь оснащена рубашкой охлаждения, системой жаростойких экранов и нагревателями на основе вольфрама и максимально проста в эксплуатации.
 
          Вакуум-герметичная конструкция и тщательный контроль газовых потоков позволяют проводить нагрев в атмосфере высокой чистоты в различных инертных, восстановительных газов и их смесей.
 

Технические характеристики и комплектация вакуумной печи EPOS-VACFURN-2000

 

 

ПАРАМЕТР

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Установленная мощность установки, кВт

100

Максимальная длительная температура в рабочей зоне, °С

2000

Схема загрузки

Вертикальная, с опускающимся подом

Вакуумная камера

  • Камера выполнена в вертикальном исполнении колпакового типа;
  • Материал камеры: нержавеющая сталь 12Х18Н10Т;
  • Форма камеры: цилиндрическая с эллиптическим колпаком;
  • Размеры камеры: диаметр – 514 мм; высота – 664 мм;
  • Конструкция камеры: корпус - выполнен по типу труба в трубе с каналом водоохлаждения и водоохлаждаемым фланцем ñ620 мм;
  • стол предметный ñ150 мм - установлен на водоохлаждаемый фланец;
  • Изоляция камеры нагрева экранная, слои из вольфрама, молибдена и нержавеющей стали

Вакуумная система

  • тип вакуумной системы - сухая
  • форвакуумный спиральный насос производительностью не менее 25 м3/час;
  • вакуумметр с диапазоном измерения от 10-4 до 1 бар;
  • широкодиапазонный вакуумметр с диапазоном измерения от 5х10-8 до 1 бар;
  • турбомолекулярный насос с быстротой действия не менее 700 л/сек;
  • регулятор расхода газа;
  • вакуумная арматура включает комплект пневматических клапанов, вакуумный затвор и вакуумные фитинги.

Рабочая зона нагрева (тепловой блок)

  • Размеры рабочей зоны (диаметр × высота), не менее Ø150 × 200 мм;
  • Материал нагревателей сопротивления – вольфрам.

Система водяного охлаждения

  • Охлаждение вакуумной камеры – водяное.
  • Клеммы питания токовводов и кабели – водоохлаждаемые;
  • Все контуры охлаждения оснащены расходомерами и датчиками температуры.
  • Возможно использование замкнутого контура охлаждения.
  • Рекомендованная охлаждающая жидкость – дистиллированная вода;
  • Количество датчиков рабочей жидкости с измерением величины потока – 5 шт.

Система подачи/отвода газов

  • Для подачи инертного или формир-газа.
  • Контроль подачи газа с использованием электронного расходомера;
  • давление измеряется электронным датчиком давления.
  • Автоматическая система подачи/отвода газов реализована на базе промышленного контроллера.

Система терморегулирования

  • Контроль температуры по термоэлементу тип ТВР А1 (вольфрам – рениевые термопары);
  • Система регулирования температуры реализована на базе устройства программируемого нагрева и контроля температуры изделий/рабочей зоны – промышленного контроллера (с архивированием данных и выводом на монитор ПК).
  • Точность определения температуры печи и зоны нагрева определяется классом точности термопары (ТВР А1);
  • Точность поддержания температуры в изотермическом режиме +/- 5С;
  • Скорость нагрева: - от 0,25 до 10 °С/мин.

Источник питания печи

Источник питания печи состоит из кремниевого полупроводникового выпрямителя с ограничителем тока, понижающим трансформатором, автоматом, контактором, амперметром, вольтметром, световыми индикаторами.

Комплект ЗИП

ОПЦИЯ: Чиллер

Чиллер моноблочного исполнения, холодопроизводительностью в диапазоне от 28 до 70 кВт.