clock
Заказать звонок Мы вам перезвоним

Дуговые испарители

Назначение

 

          Дуговые источники напыления характеризуются высокой производительностью и незаменимы в технологии вакуумного упрочнения различных деталей и инструмента. Дуговой испаритель позволяет наносить покрытия из различных металлов, включая тугоплавкие, а также их соединения – оксиды, нитриды, карбиды и карбонитриды.

Подробное описание оборудования

Скачать полное описание Скачать полное описание

Электродуговой испаритель - EPOS-ARC

 

          Наша компания производит электродуговые испарители для установок нанесения упрочняющих и декоративных покрытий, а так же сами установки дугового напыления, представленные в разделе «Технологическое вакуумное оборудование». Конструкция плазменного дугового источника EPOS-ARC в значительной степени предотвращает попадание капельной фазы на напыляемые изделия и повышает их качество.

 

          Дуговой разряд инициируется «электронным» способом, с помощью импульсного разряда, который создается в зазоре, разделенным керамическим изолятором, между катодом и поджигающим электродом.

 

          Дуговые испарители фирмы «ЭПОС-Инжиниринг» по установочным габаритам и катоду совместимы с установками ННВ-6.6.

 

схема дугового испарителя

 

Описание

 

          Электродуговой испаритель состоит из корпуса и электрически изолированного от него держателя катода. Держатель и корпус испарителя охлаждаются водой. В держателе устанавливается сменная заготовка-катод, выполненная из титана или другого материала, наносимого в качестве покрытия.

 

          Для создания оптимального режима работы дугового разряда и формы истекающих из источника паров он оснащен двумя катушками для создания электромагнитного поля – фокусирующей и стабилизирующей.

 

          Новая конструкция обеспечивает нанесение функциональных покрытий и обладает следующими отличительными и преимущественными характеристиками:

  • Высокая производительность по разовой загрузке обрабатываемых изделий;
  • Стабилизация магнитным полем катодных пятен дуги на рабочей поверхности катода;
  • Независимая регулируемая магнитная фокусировка потока плазмы;
  • Простая конструкция, что обеспечивает быструю замену изношенных элементов на новые и предоставляет возможность изготовления их на месте у Заказчика;
  • Низкая цена по сравнению с зарубежными и отечественными аналогами.

Технические характеристики

 

Коэффициент использования материала, % - 80;

Охлаждение - водяное;

Диаметр катода, мм - 80;

Подводимая мощность, кВт - 6—12 кВт.

 

Скачать полное описание