Установка MOCVD. Осаждение металлорганических соединений из газовой фазы.
Назначение
Установка MOCVD предназначена для разработки методик нанесения биологически совместимых наноструктурированных металлических (Ir, Pt) и композиционных (Ir-IrO2, PtxIry) покрытий методом MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) с заданными электрофизическими свойствами на различные материалы, применяемые при создании изделий и устройств медицинского назначения (например, электрохирургических и эндокардиальных электродов). Установка позволяет наносить покрытия из благородных металлов на объемные изделия.
Metal-Organic Chemical Vapor Deposition – Осаждение металлорганических соединений из газообразной фазы.