Установка термического резистивного испарения – VSE-PVD-OLED

Назначение и область применения

Установка VSE-PVD-OLED предназначена для получения нанокомпозитных тонкоплёночных покрытий высокого качества методом совместного термо-резистивного испарения с возможностью предварительного нагрева подложек.

Впервые в России спроектирована и изготовлена система вакуумного осаждения, обеспечивающая последовательное получение контролируемых по толщине и скорости  тонких слоев металлов и органических материалов за один цикл.

В настоящее время производство OLED-дисплеев является одной из самых быстро растущих отраслей в мире.
Метод вакуумного испарения широко используется в OLED –  технологиях для небольших панелей благодаря своей простоте и многофункциональности для решения следующих задач:

Установка VSE-PVD-OLED
  • отработка и модернизация технологий получения органических полупроводниковых структур
  • создание новых термически и химически стабильных молекулярных материалов
  • исследование условий процесса получения и свойств органических люминофоров и твердотельных активных излучающих сред (матриц)
  • исследование фото – и других процессов в органических соединениях
  • масочные технологии и др.

Установка встраиваема в перчаточный бокс, в котором поддерживается атмосфера с низким содержанием пыли, кислорода и влаги.

Отличительные особенности

1. Установка включает два испарителя металлов и два испарителя органических соединений с защитным экраном от загрязнения камеры и заслонкой над испарителями.
Специально изготовленный  низкотемпературный испаритель (LTE) собственной разработки имеет защищённый от прямого воздействия испаряемого материала нагреватель, а также две точки размещения термопары, что позволяет контролировать температуру с точностью до 0,1 С.  Испаритель легко демонтируется и  разбирается для обслуживания (чистка, замена нити и т.д.).

Система крепления и позиционирования направленности распыления для OLED источника испарения обеспечивает выставление положения источника по трем координатам с точностью до 0,5мм. Тигель легко вставляется/извлекается благодаря специальному быстроразъёмному механизму защёлки. Из-за отсутствия прямого контакта тигля с высокотемпературной частью нагревателя отсутствует сплавление тигля с опорой и стенками испарителя.

2. Возможно одновременное испарение с двух молибденовых лодочек или с двух испарителей органических соединений LTE, позволяющее создавать нанокомпозитные материалы.

Установка VSE-PVD-OLED

3. Цилиндрическая вакуумная камера с двумя фланцами на торцах. Материал камеры – термостойкое боросиликатное стекло. Толщина стенок 7мм.
Использование стеклянной камеры позволяет производить обзор с любого угла, что важно для исследовательских и учебных целей. Также низкая масса стеклянной камеры облегчает ее перемещение внутри перчаточного бокса для дальнейшей загрузки/выгрузки материала напыления и образцов.
На верхнем фланце установки предусмотрены нержавеющие ТЭНы для нагрева подложки. Нить накаливания ТЭНа изолирована от вакуумной части установки таким образом, что исключает перегорание и обеспечивает надёжность работы системы.

4. Специальная конструкция подложкодержателя обеспечивает простоту закрепления стандартизированных подложек, предусмотренных технологией.

5. Система автоматизации установки предусматривает откачку по одной кнопке. Большой удобный сенсорный дисплей отображает мнемосхему процесса.

Установка снабжена системой контроля толщины напыляемого слоя на основе кварцевого кристаллического сенсора с контроллером, обеспечивающим отображение толщины напыляемой пленки в диапазоне 0 нм- 999,9 мкм с разрешением 0.1 нм.