clock
Заказать звонок Мы вам перезвоним

Установка осаждения металлорганических соединений из газовой фазы - EPOS-MOCVD

Подробное описание оборудования

Скачать полное описание Скачать полное описание

Описание

 

          Установка EPOS-MOCVD предназначена для разработки методик нанесения биологически совместимых наноструктурированных металлических (Ir, Pt) и композиционных (Ir-IrO2, PtxIry) покрытий методом MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) с заданными электрофизическими свойствами на различные материалы, применяемые при создании изделий и устройств медицинского назначения (например, электрохирургических и эндокардиальных электродов). Установка позволяет наносить покрытия из благородных металлов на объемные изделия.

 

Установка состоит из следующих узлов и систем:

  • - Реактора, включающего в себя систему нагрева (до 650°С) и вращения образцов;
  • - 2-х канальной системы подачи паров прекурсоров, с температурой парообразования до 250°С;
  • - Прогреваемой до 250°С линии подачи прекурсоров;
  • - Вакуумной системы, включающей в себя пластинчато-роторный форвакуумный насос, систему электромагнитных клапанов, высокоточный вакуумметр;
  • - 4-х канальной газораспределительной системы, имеющей два канала для подачи газа-носителя и два канала для подачи дополнительных технологических газов;
  • - Системы автоматизации, включающей в себя блоки терморегуляторов и контрольно-измерительного оборудования (управление нагревателями, откачкой, газовой системой, вращением подложкодержателя и т.д.).