Атомизатор плазменно-дуговой.

Плазмотроны для производства порошков в составе плазменной установки по производству порошков аддитивного качества.

атомизатор плазменно дуговой
Плазмотрон

Рис. Плазменная установка для производства аддитивных порошков в защитной атмосфере. Плазмотрон.

Назначение:

Установка предназначена для разработки и применения высокоэффективных промышленных технологий синтеза высококачественных аддитивных металлических порошков для их использования в технологическом цикле построения сложнопрофильных деталей методами селективного лазерного плавления/спекания.

Принцип работы установки:

Плазменная установка обеспечивает производство порошков аддитивного качества методом плазменного центробежного распыления и последующей конденсации в среде аргона. Система работает с использованием химической нейтрализации кислорода, при атмосферном давлении, с регулировкой размеров производимых частиц.

Установка оснащена непрерывной загрузкой фидштоков и разгрузкой готовой продукции.

Транспортировка произведенных порошков для последующей технологической обработки производится пневматической системой.

Напряжение питающей сети, В 380±10%
Номинальная частота, Гц 50±1
Число фаз 3
Установленная мощность, кВт 60
Выходная фракция порошка, кВт 20-120
Тип установки Плазменная, центробежного распыления
Производительность, кг/час

— по плавлению

— технологическая

 

55

30

Материал заготовок Жаропрочные, никелевые сплавы
Размеры переплавляемой заготовки:

диаметр, мм

длина, мм

масса, кг

 

25±2

500

2

Частота вращения заготовки, мин-1 до 24000
Диаметр барабана, мм 200
Длина барабана, мм 550
Мощность электродвигателя барабанов, кВт 10
Газова среда Ar, He, их смесь
Давление газа в камере (избыточное), Па до 400
Система газоснабжения замкнутая
Система водоснабжения замкнутая
Тип плазменного узла коаксильный с вешней магнитной системой
Ток дуги, А, не более 500
Напряжение дуги, В, не более 80
Мощность плазмотрона, кВт 40
Мощность источника питания, кВт, не более 50
Тип источника питания ИПП-50-500
Габаритные размеры, мм, не более:

длина

ширина

высота

 

3000

3000

3500

Масса, кг 350

Особенности установки:

В процессе проектирования были рассмотрены все конструкторско-технологические схемы организации процесса распыления металла. Были решены вопросы выбора типа и конструкции плазмотрона, организации и поддержания защитной атмосферы в технологической зоне.

В установке применено «ноу-хау» позволяющее достичь эффекта полной самобалансировки вращающихся масс, что позволяет уменьшить металлоёмкость конструкции, увеличить срок службы, а также снизить требования к геометрии распыляемой заготовки.

Преимущества установки:

  • Повышенный КПД — 95-98%. За счет плазмотрона коаксиального типа с вынесенной дугой и эффективной системой энергообмена плазмы со слитком;
  • Отсутствие вакуумной системы. Кислород из камеры удаляется химическим путём, что существенно уменьшает стоимость установки;
  • Регулирование производительности. Широкий диапазон видов распыляемых заготовок, что позволяет изменять производительность установки;

Опыт разработки:

В процессе проектирования были рассмотрены вопросы несколько конструкторско-технологических схем, касающихся организации процесса распыления металла. Были решены вопросы выбора типа и конструкции плазмотрона, организации и поддержания защитной атмосферы в технологической зоне и прочее.

В качестве дальнейшего развития существующей установки АПД/АПП 30.1-30, была рассмотрена конструкторско-технологическая схема, позволяющая достичь эффекта частичной или полной самобалансировки вращающихся масс, что позволяет уменьшить металлоёмкость конструкции, увеличить срок её службы, а также снизить требования к геометрии распыляемой заготовки.

edback