clock
Заказать звонок Мы вам перезвоним

Установка термического резистивного испарения – EPOS-PVD-OLED

Назначение

 

          Установка EPOS-PVD-OLED предназначена для получения нанокомпозитных тонкоплёночных покрытий высокого качества методом совместного термо-резистивного испарения с возможностью предварительного нагрева подложек.

Подробное описание оборудования

Скачать полное описание Скачать полное описание

Описание

 

          Впервые в России спроектирована и изготовлена система вакуумного осаждения, обеспечивающая последовательное получение контролируемых по толщине и скорости  тонких слоев металлов и органических материалов за один цикл.

 

          В настоящее время производство OLED-дисплеев является одной из самых быстро растущих отраслей в мире. Метод вакуумного испарения широко используется в OLED– технологиях для небольших панелей благодаря своей простоте и многофункциональности для решения следующих задач:

  • Отработка и модернизация технологий получения органических полупроводниковых структур;
  • Создание новых термически и химически стабильных молекулярных материалов;
  • Исследование условий процесса получения и свойств органических люминофоров и твердотельных активных излучающих сред (матриц);
  • Исследование фото- и других процессов в органических соединениях;
  • Масочные технологии и др.

          Установка встраиваема в перчаточный бокс, в котором поддерживается атмосфера с низким содержанием пыли, кислорода и влаги.

 

Технические характеристики

 

Технологические источники

низкотемпературный испаритель (LTE) – 2 шт.,

резистивный испаритель-лодочка – 2 шт.

Вакуумная камера

нержавеющая сталь и колпак из термостойкого боросиликатного стекла

Нагрев подложек

наличие, с контролем и регулировкой температуры

Толщина напыляемой пленки, мкм

0-1000

Система контроля толщины покрытия

наличие, разрешающая способность 1 нм

Встраивание в перчаточный бокс

предусмотрено

Особенности установки

 

Отличительные особенности установки термического резистивного испарения EPOS-PVD-OLED:

  • Установка включает два испарителя металлов и два испарителя органических соединений с защитным экраном от загрязнения камеры и заслонкой над испарителями.
  • Специально изготовленный  низкотемпературный испаритель (LTE) собственной разработки имеет защищённый от прямого воздействия испаряемого материала нагреватель, а также две точки размещения термопары, что позволяет контролировать температуру с точностью до 0,1°С. Испаритель легко демонтируется и  разбирается для обслуживания (чистка, замена нити и т.д.).
  • Система крепления и позиционирования направленности распыления для OLED источника обеспечивает выставление его положения по трем координатам с точностью до 0,5 мм. Тигель легко вставляется и извлекается благодаря специальному быстроразъёмному механизму. Из-за отсутствия прямого контакта тигля с высокотемпературной частью нагревателя отсутствует сплавление тигля с опорой и стенками испарителя.
  • Возможно одновременное испарение с двух молибденовых лодочек или с двух испарителей органических соединений LTE, позволяющее создавать нанокомпозитные материалы./li>
  • Установка содержит цилиндрическую вакуумную камеру с двумя фланцами на торцах. Материал камеры – термостойкое боросиликатное стекло. Толщина стенок 7 мм.
  • Использование стеклянной камеры позволяет производить обзор с любого угла, что важно для исследовательских и учебных целей. Также низкая масса стеклянной камеры облегчает ее перемещение внутри перчаточного бокса для дальнейшей загрузки/выгрузки материала напыления и образцов.
  • На верхнем фланце установки предусмотрены нержавеющие ТЭНы для нагрева подложки. Нить накаливания ТЭНа изолирована от вакуумной части установки таким образом, что исключает перегорание и обеспечивает надёжность работы системы.
  • Специальная конструкция подложкодержателя обеспечивает простоту закрепления стандартизированных подложек, предусмотренных технологией.
  • Система автоматизации установки предусматривает откачку по одной кнопке. Большой удобный сенсорный дисплей отображает мнемосхему процесса.

          Установка снабжена системой контроля толщины напыляемого слоя на основе кварцевого кристаллического сенсора с контроллером, обеспечивающим отображение толщины напыляемой пленки в диапазоне 0 нм – 999,9 мкм с разрешением 1 нм.

 

 

Скачать полное описание