Описание
Впервые в России спроектирована и изготовлена система вакуумного осаждения, обеспечивающая последовательное получение контролируемых по толщине и скорости тонких слоев металлов и органических материалов за один цикл.
В настоящее время производство OLED-дисплеев является одной из самых быстро растущих отраслей в мире. Метод вакуумного испарения широко используется в OLED– технологиях для небольших панелей благодаря своей простоте и многофункциональности для решения следующих задач:
- Отработка и модернизация технологий получения органических полупроводниковых структур;
- Создание новых термически и химически стабильных молекулярных материалов;
- Исследование условий процесса получения и свойств органических люминофоров и твердотельных активных излучающих сред (матриц);
- Исследование фото- и других процессов в органических соединениях;
- Масочные технологии и др.
Установка встраиваема в перчаточный бокс, в котором поддерживается атмосфера с низким содержанием пыли, кислорода и влаги.
Технические характеристики
Технологические источники | низкотемпературный испаритель (LTE) – 2 шт., резистивный испаритель-лодочка – 2 шт. |
Вакуумная камера | нержавеющая сталь и колпак из термостойкого боросиликатного стекла |
Нагрев подложек | наличие, с контролем и регулировкой температуры |
Толщина напыляемой пленки, мкм | 0-1000 |
Система контроля толщины покрытия | наличие, разрешающая способность 1 нм |
Встраивание в перчаточный бокс | предусмотрено |
Особенности установки
Отличительные особенности установки термического резистивного испарения EPOS-PVD-OLED:
- Установка включает два испарителя металлов и два испарителя органических соединений с защитным экраном от загрязнения камеры и заслонкой над испарителями.
- Специально изготовленный низкотемпературный испаритель (LTE) собственной разработки имеет защищённый от прямого воздействия испаряемого материала нагреватель, а также две точки размещения термопары, что позволяет контролировать температуру с точностью до 0,1°С. Испаритель легко демонтируется и разбирается для обслуживания (чистка, замена нити и т.д.).
- Система крепления и позиционирования направленности распыления для OLED источника обеспечивает выставление его положения по трем координатам с точностью до 0,5 мм. Тигель легко вставляется и извлекается благодаря специальному быстроразъёмному механизму. Из-за отсутствия прямого контакта тигля с высокотемпературной частью нагревателя отсутствует сплавление тигля с опорой и стенками испарителя.
- Возможно одновременное испарение с двух молибденовых лодочек или с двух испарителей органических соединений LTE, позволяющее создавать нанокомпозитные материалы./li>
- Установка содержит цилиндрическую вакуумную камеру с двумя фланцами на торцах. Материал камеры – термостойкое боросиликатное стекло. Толщина стенок 7 мм.
- Использование стеклянной камеры позволяет производить обзор с любого угла, что важно для исследовательских и учебных целей. Также низкая масса стеклянной камеры облегчает ее перемещение внутри перчаточного бокса для дальнейшей загрузки/выгрузки материала напыления и образцов.
- На верхнем фланце установки предусмотрены нержавеющие ТЭНы для нагрева подложки. Нить накаливания ТЭНа изолирована от вакуумной части установки таким образом, что исключает перегорание и обеспечивает надёжность работы системы.
- Специальная конструкция подложкодержателя обеспечивает простоту закрепления стандартизированных подложек, предусмотренных технологией.
- Система автоматизации установки предусматривает откачку по одной кнопке. Большой удобный сенсорный дисплей отображает мнемосхему процесса.
Установка снабжена системой контроля толщины напыляемого слоя на основе кварцевого кристаллического сенсора с контроллером, обеспечивающим отображение толщины напыляемой пленки в диапазоне 0 нм – 999,9 мкм с разрешением 1 нм.
Скачать полное описание
